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    重庆时时彩将输改赢: 物体处理装置、曝光装置及曝光方法、以及元件制造方法.pdf

    摘要
    申请专利号:

    重庆时时彩单双窍门 www.4mum.com.cn CN201610282687.1

    申请日:

    2010.08.17

    公开号:

    CN105954976A

    公开日:

    2016.09.21

    当前法律状态:

    实审

    有效性:

    审中

    法律详情: 实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/20申请日:20100817|||公开
    IPC分类号: G03F7/20; B65G49/06 主分类号: G03F7/20
    申请人: 株式会社尼康
    发明人: 青木保夫; 滨田智秀; 白数广; 户口学
    地址: 日本东京都
    优先权: 2009.08.20 US 61/235,499; 2010.08.12 US 12/855,283
    专利代理机构: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 李鹤松
    PDF完整版下载: PDF下载
    法律状态
    申请(专利)号:

    CN201610282687.1

    授权公告号:

    |||

    法律状态公告日:

    2016.10.19|||2016.09.21

    法律状态类型:

    实质审查的生效|||公开

    摘要

    于基板(P)下方配置有对基板(P)下面喷出空气的多个空气悬浮单元(50),并且基板(P)被以非接触方式支承成大致水平。进一步地,基板(P)被定点载台(40)从下方以非接触方式保持被曝光部位,该被曝光部位的面位置被精确调整。是以,能以高精度对基板(P)进行曝光,且能使基板载台装置(PST)的构成简单化。

    权利要求书

    1.一种物体处理装置,其是对一平板状物体进行既定处理,该平板状物体沿包含彼此
    正交的第1及第2轴的一既定二维平面配置,该物体处理装置具备:
    一执行装置,其是对前述物体的一面侧的一部分区域执行既定动作;
    一调整装置,其具有从前述物体下方以非接触状态保持前述物体中包含前述部分区域
    的部分的保持面,并且调整前述部分在与前述二维平面交叉的方向的位置;以及
    一非接触支承装置,其是使其支承面对向于前述物体的被前述调整装置保持的部分以
    外的其他区域,以从下方以非接触方式支承前述物体。
    2.如权利要求1所述的物体处理装置,其中,前述调整装置通过从前述保持面对前述
    物体喷出一气体,且吸引前述保持面与前述物体之间的气体而以非接触方式保持前述物
    体。
    3.如权利要求2所述的物体处理装置,其中,前述调整装置是使前述物体与前述保持
    面之间的气体的气压及流量的至少一方为可变的,以使前述物体与前述保持面的距离为一
    定的。
    4.如权利要求1至3中任一项所述的物体处理装置,其中,前述调整装置具有将一具
    有前述保持面的构件驱动于与前述二维平面交叉的方向的一致动器。
    5.如权利要求4所述的物体处理装置,其中,前述致动器包含:一可动件,其设于具
    有前述保持面的构件;以及一固定件,其设于一与用以测量具有前述保持面的构件的位置
    信息的测量构件在振动上分离的构件。
    6.如权利要求1至5中任一项所述的物体处理装置,其中,前述调整装置具有一用以
    抵销前述物体的重量的重量抵销装置。
    7.如权利要求1至6中任一项所述的物体处理装置,其中,前述非接触支承装置是通
    过从前述支承面对前述物体喷出一气体而以非接触方式支承前述物体。
    8.如权利要求1至7中任一项所述的物体处理装置,其中,前述调整装置的前述保持
    面与前述物体间的距离较前述非接触支承装置的前述支承面与前述物体间的距离短。
    9.如权利要求1至8中任一项所述的物体处理装置,其进一步具备:
    一移动体,其保持前述物体的一端部并可沿前述二维平面移动;以及
    一驱动装置,其是将前述移动体驱动于前述二维平面内的至少一轴方向。
    10.如权利要求9所述的物体处理装置,其中,前述调整装置的具有前述保持面的构件
    与前述驱动装置在振动上分离。
    11.如权利要求9或10所述的物体处理装置,其中,前述非接触支承装置的支承面涵
    盖在被前述驱动装置驱动时的前述物体的移动范围。
    12.如权利要求9至11中任一项所述的物体处理装置,其中,前述非接触支承装置的
    前述支承面的至少一部分被设成可移动于与前述二维平面交叉的方向,并且通过该支承面
    的至少一部分在与前述二维平面交叉的方向的移动,使前述物体从前述移动体分离而移动
    于与前述二维平面交叉的方向。
    13.如权利要求9至12中任一项所述的物体处理装置,其中,前述移动体具有一沿前
    述物体的端部延伸设置的一框状构件所构成的本体部。
    14.如权利要求13所述的物体处理装置,其中,前述移动体具有一从下方通过吸附以
    保持前述物体外周缘部的至少一部分的保持构件;
    前述保持构件,可相对前述本体部在保持有前述物体的状态下位移于与前述二维平面
    正交的方向。
    15.如权利要求14所述的物体处理装置,其中,前述保持构件是较前述物体下面更往
    下方突出设置,该突出量较前述非接触支承装置的支承面与前述物体的下面的距离小。
    16.如权利要求13至15中任一项所述的物体处理装置,其中,前述本体部具有一开口
    部,该开口部通过相对前述物体的在与前述二维平面平行的方向的相对移动而容许该物体
    通过。
    17.如权利要求13所述的物体处理装置,其中,前述移动体具有一按压装置,该按压
    装置是通过从前述本体部的内壁面中彼此对向的一对对向面的一面往另一面按压前述物
    体,以使该物体保持于前述本体部。
    18.如权利要求13至17中任一项所述的物体处理装置,其进一步具备一光干涉仪系统,
    该光干涉仪系统是通过分别对前述本体部的与前述第1轴正交的第1外侧面、以及与前述
    第2轴正交的第2外侧面照射测距光束且接收其反射光,以求出前述本体部在前述二维平
    面内的位置信息。
    19.如权利要求13至18中任一项所述的物体处理装置,其中,前述驱动装置包含与前
    述第1轴平行延伸设置的第1导引构件、在前述第1导引构件上移动于与前述第1轴平行
    的方向的第1移动构件、与前述第2轴平行延伸设置且连接于前述第1移动构件的第2导
    引构件、以及保持前述移动体并在前述第2导引构件上移动于与前述第2轴平行的方向的
    第2移动构件;
    前述第1导引构件及前述第1移动构件配置于较前述既定二维平面更下方。
    20.如权利要求19所述的物体处理装置,其中,多个前述第1导引构件是在与前述第
    2轴平行的方向以一既定间隔设置;
    多个前述第1移动构件是与前述多个第1导引构件对应地设置;
    前述第2导引构件架设于前述多个第1移动构件之上。
    21.如权利要求19或20所述的物体处理装置,其中,前述第2导引构件配置于较前述
    非接触支承装置的支承面更上方,该第2导引构件的下面被前述非接触支承装置以非接触
    状态支承。
    22.如权利要求19至21中任一项所述的物体处理装置,其中,前述第2移动构件是以
    非接触方式支承于前述第2导引构件。
    23.如权利要求19至22中任一项所述的物体处理装置,其中,多个前述第2移动构件
    是在与前述第2轴平行的方向以一相隔既定间隔设置;
    前述移动体的多个部位是被前述多个第2移动构件保持。
    24.如权利要求19至23中任一项所述的物体处理装置,其中,前述移动体是以非接触
    方式保持于前述第2移动构件。
    25.如权利要求24所述的物体处理装置,其中,前述驱动装置具备一将前述移动体相
    对前述第2移动构件微幅驱动于与前述二维平面平行的方向的微幅驱动装置。
    26.如权利要求19至25中任一项所述的物体处理装置,其中,前述第1移动构件在前
    述二维平面内的一轴方向分别设于前述移动体的一侧及另一侧;
    前述第2导引构件及前述第2移动构件是分别与前述一侧及前述另一侧的第1移动构
    件对应设置;
    前述移动体在前述一轴方向的一侧及另一侧是分别保持于前述一侧及前述另一侧的
    第2移动构件。
    27.如权利要求19至26中任一项所述的物体处理装置,其中,前述移动体是通过一铰
    链装置连接于前述第2移动构件,该铰链装置一边限制该移动体与该第2移动构件在与前
    述二维平面平行的方向的相对移动,一边容许该移动体与该第2移动构件绕着与前述二维
    平面平行的轴线的旋转。
    28.如权利要求9至27中任一项所述的物体处理装置,其进一步具备一光干涉仪系统,
    该光干涉仪系统是通过对设于前述移动体的反射面照射一测距光束且接收其反射光,以求
    出前述移动体在前述二维平面内的位置信息。
    29.如权利要求1至28中任一项所述的物体处理装置,其中,前述执行装置包含一为
    了检查前述物体而拍摄该物体的一表面的影像的摄影装置。
    30.如权利要求1至29中任一项所述的物体处理装置,其中,前述物体是一用于一显
    示器装置的显示面板的基板。
    31.如权利要求1至28中任一项所述的物体处理装置,其中,前述执行装置是通过使
    用一能量束使前述物体曝光而据以将一既定图案形成于该物体上的图案形成装置。
    32.一种元件制造方法,其包含:
    使用如权利要求31所述的物体处理装置使前述物体曝光的动作;以及
    使前述已曝光的物体显影的动作。
    33.一种曝光装置,其是通过照射一能量束使一物体曝光而据以将一既定图案形成于前
    述物体上,其具备:
    一定点载台,其包含一从前述物体下方以非接触状态保持前述物体的包含被照射前述
    能量束的一部分区域的部分的构件,以调整前述部分在与前述二维平面交叉的方向的位
    置,该物体是沿包含彼此正交的第1及第2轴的一既定二维平面配置;以及
    一非接触支承装置,其是使其支承面对向于前述物体的被前述保持面保持的部分以外
    的其他区域,以从下方以非接触方式支承前述物体。
    34.如权利要求33所述的曝光装置,其进一步具备:一物体保持构件,其保持前述物
    体的一端部并可沿前述二维平面移动;
    一驱动装置,其是将前述物体保持构件驱动于前述二维平面内的至少一轴方向。
    35.如权利要求34所述的曝光装置,其进一步具备一光干涉仪系统,该光干涉仪系统
    是通过对设于前述物体保持构件的反射面照射一测距光束且接收其反射光,以求出前述物
    体保持构件在前述二维平面内的位置信息。
    36.如权利要求33至35中任一项所述的曝光装置,其中,前述定点载台具有将一具有
    前述保持面的构件驱动于与前述二维平面交叉的方向的一致动器。
    37.如权利要求36所述的曝光装置,其中,前述致动器包含:一可动件,其设于具有
    前述保持面的构件;以及一固定件,其设于一与用以测量具有前述保持面的构件的位置信
    息的测量构件在振动上分离的构件。
    38.如权利要求33至37中任一项所述的曝光装置,其中,前述定点载台具有一用以抵
    销前述物体的重量的重量抵销装置。
    39.如权利要求33至38中任一项所述的曝光装置,其中,前述物体是尺寸不小于500mm
    的基板。
    40.一种元件制造方法,其包含:
    使用如权利要求33至39中任一项所述的曝光装置使前述物体曝光的动作;以及
    使前述已曝光的物体显影的动作。
    41.一种平面面板显示器的制造方法,其包含:
    使用如权利要求33至39中任一项所述的曝光装置使一平面面板显示器用的基板曝光
    的动作;以及
    使前述已曝光的基板显影的动作。
    42.一种曝光方法,其是通过照射一能量束使一物体曝光而据以将一既定图案形成于前
    述物体上,其包含:
    通过在二维平面内的位置为固定的一保持构件,从前述物体下方以非接触状态保持前
    述物体的包含被照射前述能量束的一部分区域的部分,以调整前述部分在与二维平面交叉
    的方向的位置的动作,该物体是沿包含彼此正交的第1及第2轴的既定二维平面配置;以

    使一支承构件的一支承面对向于前述物体的被前述保持构件保持的部分以外的其他
    区域,以从下方以非接触方式支承前述物体的动作。
    43.如权利要求42所述的曝光方法,其进一步包含:通过一可沿前述二维平面移动的
    物体保持构件保持前述物体的一端部的动作;以及
    将前述物体保持构件驱动于前述二维平面内的至少一轴方向的动作。
    44.一种元件制造方法,其包含:
    使用如权利要求42或43所述的曝光方法使前述物体曝光的动作;以及使前述已曝光
    的物体显影的动作。

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    物体 处理 装置 曝光 方法 以及 元件 制造
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