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    重庆时时彩改单骗局2014: 一种硫系光纤光栅的无掩模制备装置及方法.pdf

    摘要
    申请专利号:

    重庆时时彩单双窍门 www.4mum.com.cn CN201610567087.X

    申请日:

    2016.07.14

    公开号:

    CN105954832A

    公开日:

    2016.09.21

    当前法律状态:

    授权

    有效性:

    有权

    法律详情: 授权|||实质审查的生效IPC(主分类):G02B 6/02申请日:20160714|||公开
    IPC分类号: G02B6/02; G03F7/20 主分类号: G02B6/02
    申请人: 宁波大学
    发明人: 曾江辉; 张培晴; 张倩; 戴世勋; 王训四; 许银生; 刘自军; 张巍; 吴越豪
    地址: 315211 浙江省宁波市江北区风华路818号
    优先权:
    专利代理机构: 宁波奥圣专利代理事务所(普通合伙) 33226 代理人: 谢潇
    PDF完整版下载: PDF下载
    法律状态
    申请(专利)号:

    CN201610567087.X

    授权公告号:

    ||||||

    法律状态公告日:

    2019.04.16|||2016.11.09|||2016.09.21

    法律状态类型:

    授权|||实质审查的生效|||公开

    摘要

    本发明公开了一种硫系光纤光栅的无掩模制备装置及方法,该装置包括激光光源、衰减片、激光光源准直光学系统、数字微镜器件、分光镜、成像光学系统、移动工作平台、CCD和计算机,该无掩模制备装置结构简单、高效,无需使用价格昂贵的掩膜板,成本低,可操作性强,利用该装置制备硫系光纤光栅时,可充分利用数字微镜器件的特点,通过数字微镜器件生成动态的图像,比传统制备方法更加简便,取代传统的掩模板,避免了掩模板不可重复循环使用的缺陷,有利于节约资源,且本发明方法操作灵活,刻写的光纤光栅的周期可控,最终实现硫系光纤光栅的高效率、无掩??绦?,获得均匀结构或非均匀结构的光纤光栅,本发明具有较好的实用价值和应用前景。

    权利要求书

    1.一种硫系光纤光栅的无掩模制备装置,其特征在于包括激光光源、衰减片、激光光源准直光学系统、数字微镜器件、分光镜、成像光学系统、移动工作平台、CCD和计算机,所述的移动工作平台上安放有硫系光纤,所述的衰减片、激光光源准直光学系统和数字微镜器件沿所述的激光光源发出的激光脉冲方向依次布设,所述的数字微镜器件的芯片上下载有预设的目标光栅的图形,经所述的数字微镜器件反射的激光脉冲分为两束,即第一激光束和第二激光束,所述的第一激光束保持反射的方向继续向前传输,所述的成像光学系统布设在所述的第一激光束的传输方向,所述的第一激光束经所述的成像光学系统反射后,最终聚焦照射于所述的硫系光纤上,曝光刻写得到硫系光纤光栅,且在硫系光纤光栅刻写时,照射到硫系光纤上的第一激光束的反射光返回至CCD中;所述的分光镜布设在所述的第二激光束的传输方向,所述的第二激光束通过所述的分光镜后进入所述的CCD,所述的CCD的输出端与所述的计算机相连,所述的移动工作平台的移动由所述的计算机控制。2.根据权利要求1所述的一种硫系光纤光栅的无掩模制备装置,其特征在于所述的激光光源是波长为800 nm、重复频率为1 kHz的无热效应飞秒激光器。3.根据权利要求1所述的一种硫系光纤光栅的无掩模制备装置,其特征在于所述的激光光源准直光学系统由沿所述的激光光源发出的激光脉冲方向依次布设的物镜、小孔光阑和准直透镜构成,所述的物镜为40倍的物镜,所述的小孔光阑为15 μm的小孔光阑,所述的准直透镜的直径为50 mm、焦距为7.5 cm。4.根据权利要求1所述的一种硫系光纤光栅的无掩模制备装置,其特征在于所述的数字微镜器件的分辨率为1920×1080,微镜尺寸为10.8 μm。5.根据权利要求4所述的一种硫系光纤光栅的无掩模制备装置,其特征在于所述的数字微镜器件是美国德州仪器公司生产的型号为V9501的产品。6.根据权利要求1所述的一种硫系光纤光栅的无掩模制备装置,其特征在于所述的成像光学系统由第一透镜、第二透镜、反射镜和柱透镜构成,所述的第一透镜、第二透镜、反射镜沿所述的第一激光束的传输方向依次布设,所述的第一激光束经所述的反射镜反射后由所述的柱透镜聚焦并照射在所述的硫系光纤上,所述的反射镜的反射波长范围覆盖所述的激光光源的波长。7.根据权利要求1所述的一种硫系光纤光栅的无掩模制备装置,其特征在于所述的CCD的像素尺寸为4.65×4.65 μm,分辨率为1392×1040,电子快门为20 μs~1 s。8.根据权利要求7所述的一种硫系光纤光栅的无掩模制备装置,其特征在于所述的CCD是北京大恒图像视觉有限公司生产的型号为DH-SV1421FM的产品。9.根据权利要求1所述的一种硫系光纤光栅的无掩模制备装置,其特征在于所述的硫系光纤的一端连接有宽带光源,另一端连接有光谱仪,所述的宽带光源的波长范围为800 nm~2500 nm,所述的光谱仪的测量范围为500 nm~2500 nm。10.利用权利要求1-9中任一项所述的装置进行的硫系光纤光栅的无掩模制备方法,其特征在于包括以下步骤:1)将待加工的带有有机涂覆层的硫系光纤经有机溶液浸泡半小时,去除有机涂覆层后得到裸光纤,取出裸光纤并在无水乙醇中浸泡数分钟后,取出并将裸光纤擦拭干净,在显微镜下观察裸光纤以确定裸光纤无伤痕,然后将裸光纤固定在移动工作平台上;2)在计算机上绘制好目标光栅的图形并设置好目标光栅的周期参数,然后将图形下载至数字微镜器件的芯片上;3)打开激光光源的开关,首先调节衰减片,再用功率计测量激光光源发出的激光脉冲的功率,然后调节激光光源准直光学系统,使入射到数字微镜器件上的激光脉冲为均匀平行的光束;4)对数字微镜器件和CCD同轴实时调焦,使第一激光束所在成像光路和第二激光束所在调焦光路共轭;5)经过上述准备工作后,即开始硫系光纤光栅的制备:经激光光源发出的激光脉冲经衰减片进行能量控制后,进入激光光源准直光学系统后以平行光束形式出射,照射在数字微镜器件上被反射为第一激光束和第二激光束,第一激光束保持反射的方向继续向前传输,经成像光学系统反射后,聚焦于硫系光纤上,对硫系光纤进行曝光刻写,在刻写的同时,通过计算机控制移动工作平台,使移动工作平台缓慢平移,进而控制硫系光纤光栅的周期,或者,在刻写的同时,不通过计算机控制移动工作平台移动,而是对数字微镜器件进行扫描移动,最终曝光刻写得到均匀结构或非均匀结构的硫系光纤光栅;在硫系光纤光栅刻写时,照射到硫系光纤上的第一激光束的反射光返回至CCD中,同时第二激光束通过分光镜后进入CCD,由CCD向计算机反馈第一激光束和第二激光束的成像情况,计算机上显示第一激光束和第二激光束所形成的图形的吻合程度,以便据此对硫系光纤的位置进行调节。

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    一种 光纤 光栅 无掩模 制备 装置 方法
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