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    重庆时时彩组三计划软件: 用于亚20NM特征的均匀压印图案转移的方法.pdf

    摘要
    申请专利号:

    重庆时时彩单双窍门 www.4mum.com.cn CN201480071486.6

    申请日:

    2014.12.30

    公开号:

    CN106030406A

    公开日:

    2016.10.12

    当前法律状态:

    实审

    有效性:

    审中

    法律详情: 实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/00申请日:20141230|||公开
    IPC分类号: G03F7/00 主分类号: G03F7/00
    申请人: 佳能纳米技术公司; 分子制模股份有限公司
    发明人: 叶正茂; D·L·拉布拉克
    地址: 美国得克萨斯州
    优先权: 2013.12.30 US 61/921,647
    专利代理机构: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 陈哲锋;郭辉
    PDF完整版下载: PDF下载
    法律状态
    申请(专利)号:

    CN201480071486.6

    授权公告号:

    |||

    法律状态公告日:

    2017.01.18|||2016.10.12

    法律状态类型:

    实质审查的生效|||公开

    摘要

    描述了增加压印光刻中蚀刻选择性的方法,所述方法使用赋予多层材料堆叠件独特形貌的材料沉积技术,由此增加蚀刻过程窗口和改善蚀刻选择性。例如,可在图案化光刻胶层与沉积的金属、准金属或非有机氧化物之间获得大于或等于50:1的蚀刻选择性,这在将图案转移进入衬底的蚀刻过程之前显著保留了图案特征高度,实现了在高保真度下的亚20nm图案转移。

    权利要求书

    1.一种压印光刻方法,所述方法包括下述步骤:
    在衬底上压印有机聚合材料的图案化层,所述图案化层具有限定所述
    图案化层的特征的残留层和一个或多个突出部分和凹槽,且所述突出部分
    从所述残留层延伸小于或等于20nm的高度;
    将蚀刻选择性材料沉积到至少所述图案化层的突出部分和凹槽上,所
    述蚀刻选择性材料包含相对于有机聚合材料的蚀刻选择性大于或等于50:1
    的金属、准金属或非有机氧化物;
    回蚀沉积的蚀刻选择性材料来露出突出部分;
    回蚀突出部分来露出衬底;和
    蚀刻衬底来在所述衬底中形成图案化层的反图案。
    2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述蚀刻选择性材料选自
    下组:SiO2、Cr、Al2O3或Si。
    3.如权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述蚀刻选择性材料
    的沉积还包含间隙填充沉积过程。
    4.如权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述蚀刻选择性材料
    的沉积还包含在图案化层之上形成蚀刻选择性材料的贴合层。
    5.如权利要求4所述的方法,其特征在于,还包含使用蚀刻选择性材
    料完全填充凹槽。
    6.如权利要求5所述的方法,其特征在于,沉积所述蚀刻选择性材料
    还包含旋涂过程。
    7.如权利要求4所述的方法,其特征在于,还包含在贴合层上形成聚
    合材料的平坦化的层,然后回蚀平坦化的层来暴露部分贴合层。
    8.如权利要求1-7中任一项所述的方法,其特征在于,所述凹槽限定
    多个孔。
    9.如权利要求1-7中任一项所述的方法,其特征在于,所述突出部分
    限定多条平行的线路。
    10.一种压印光刻方法,所述方法包括下述步骤:
    在衬底上压印有机聚合材料的图案化层,所述图案化层具有限定所
    述图案化层的特征的残留层和一个或多个突出部分和凹槽,且所述突出部
    分从所述残留层延伸小于或等于20nm的高度;
    将蚀刻选择性材料仅沉积到所述图案化层的突出部分上,所述蚀刻
    选择性材料包含相对于有机聚合材料的蚀刻选择性大于或等于50:1的金
    属、准金属或非有机氧化物;
    回蚀残留层来露出衬底;和
    蚀刻衬底来在所述衬底中形成图案化层的对应图案。
    11.如权利要求10所述的方法,其特征在于,所述蚀刻选择性材料
    选自下组:SiO2、Cr、Al2O3或Si。
    12.如权利要求10或11所述的方法,其特征在于,所述蚀刻选择性
    材料的沉积还包含小角沉积过程。
    13.如权利要求10-12中任一项所述的方法,其特征在于,所述突出
    部分限定多个柱。
    14.如权利要求10-12中任一项所述的方法,其特征在于,所述突出
    部分限定多条平行的线路。

    关 键 词:
    用于 20 NM 特征 均匀 压印 图案 转移 方法
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