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    重庆时时彩前三不定位: 用于减少除气作用的紫外线(UV)图案化的方法和装置.pdf

    摘要
    申请专利号:

    重庆时时彩单双窍门 www.4mum.com.cn CN201310046337.1

    申请日:

    2013.02.05

    公开号:

    CN103777470A

    公开日:

    2014.05.07

    当前法律状态:

    授权

    有效性:

    有权

    法律详情: 授权|||实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/20申请日:20130205|||公开
    IPC分类号: G03F7/20 主分类号: G03F7/20
    申请人: 台湾积体电路制造股份有限公司
    发明人: 张书豪; 吴小真; 许家豪; 陈家桢; 陈映予; 李慈莉; 简上杰; 陈政宏; 严涛南
    地址: 中国台湾新竹
    优先权: 2012.10.18 US 13/654,750
    专利代理机构: 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 代理人: 章社杲;孙征
    PDF完整版下载: PDF下载
    法律状态
    申请(专利)号:

    CN201310046337.1

    授权公告号:

    ||||||

    法律状态公告日:

    2016.12.28|||2014.06.04|||2014.05.07

    法律状态类型:

    授权|||实质审查的生效|||公开

    摘要

    提供了一种用于紫外线(UV)和远紫外线(EUV)光刻图案化的方法和装置。生成UV或EUV光束并且将它们引导至设置在工作台上且涂覆有光刻胶的衬底表面。在曝光(即,光刻操作)期间引导层状惰性气体流过并且紧邻涂覆有光刻胶的衬底表面。将惰性气体快速排出并且在曝光位置处具有短暂的共振时间。惰性气体流防止通过光刻胶除气产生的废气和其他污染物沉淀和污染光刻装置的其他部件。

    权利要求书

    权利要求书
    1.  一种紫外线(UV)光刻装置,包括:
    工作台,用于在其上接收要被图案化的衬底;
    紫外线(UV)光源,将UV光引导至设置在所述工作台上的所述衬底;
    气体输送源,使惰性气体在设置在所述工作台上的所述衬底的表面上方且紧邻该表面流动;以及
    排气系统,具有能够排出所述惰性气体的排气口。

    2.  根据权利要求1所述的UV光刻装置,其中,所述UV光源包括发出具有约13.5nm波长的EUV光的远紫外线(EUV)光源。

    3.  根据权利要求2所述的UV光刻装置,其中,所述EUV光源进一步包括能够将所述EUV光引导至所述衬底的至少一个反射件以及使惰性气体在所述至少一个反射件的表面上方且紧邻该表面流动的另一气体源。

    4.  根据权利要求2所述的UV光刻装置,其中,所述气体输送源包括被设置为与所述衬底的所述表面平行的多个气体输送管,每一个所述气体输送管都具有相应的气体输送端口,所述气体输送端口环绕并面对所述衬底。

    5.  根据权利要求1所述的UV光刻装置,其中,所述气体输送源使所述惰性气体以约50sccm至约2000sccm的流速在所述表面上方流动,所述惰性气体包括氦气、氖气、氩气、氪气、氙气和氡气中的至少一种,并且所述工作台是可移动的。

    6.  根据权利要求1所述的UV光刻装置,其中,所述工作台位于室内,所述气体输送源包括环绕所述工作台周围的开放通道并且所述排气口从所述室内排出所述惰性气体。

    7.  根据权利要求1所述的UV光刻装置,其中,所述工作台设置在室内并且所述排气口从所述室内排出所述惰性气体,并且所述UV光刻装置进一步包括将氢气输送到所述室的端口。

    8.  根据权利要求1所述的UV光刻装置,其中,所述气体输送源使层状的所述惰性气体在与所述衬底的表面平行的方向上流动。

    9.  一种在半导体器件上形成图案的方法,所述方法包括:
    提供紫外线(UV)光刻装置,所述紫外线光刻装置包括用于在其上接收衬底的工作台;
    将紫外线(UV)光束引导至设置在所述工作台上的衬底;
    引导惰性气体在设置在所述工作台上的所述衬底的表面上方且紧邻该表面流动;以及
    从所述衬底的表面排出所述惰性气体。

    10.  一种用于在半导体器件上形成图案的方法,所述方法包括:
    提供远紫外线(EUV)光刻装置,所述远紫外线光刻装置包括用于在其上接收衬底的工作台和至少一个反射件;
    通过所述至少一个反射件的反射将EUV光束引导至设置在所述工作台上的涂覆有光刻胶的衬底;
    通过从至少部分地环绕所述工作台的开放通道输送惰性气体来使层状的所述惰性气体在所述衬底的表面上方且紧邻该表面流动;以及
    从所述衬底的表面排出所述惰性气体;
    其中,所述惰性气体包括氦气、氖气、氩气、氪气、氙气和氡气中的至少一种。

    关 键 词:
    用于 减少 作用 紫外线 UV 图案 方法 装置
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