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    重庆时时彩后二五胆: 一种化学机械抛光液.pdf

    摘要
    申请专利号:

    重庆时时彩单双窍门 www.4mum.com.cn CN201210411192.6

    申请日:

    2012.10.25

    公开号:

    CN103774150A

    公开日:

    2014.05.07

    当前法律状态:

    撤回

    有效性:

    无权

    法律详情: 发明专利申请公布后的视为撤回IPC(主分类):C23F 3/06申请公布日:20140507|||实质审查的生效IPC(主分类):C23F 3/06申请日:20121025|||公开
    IPC分类号: C23F3/06 主分类号: C23F3/06
    申请人: 安集微电子(上海)有限公司
    发明人: 王晨; 何华锋
    地址: 201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼602室
    优先权:
    专利代理机构: 上海翰鸿律师事务所 31246 代理人: 李佳铭
    PDF完整版下载: PDF下载
    法律状态
    申请(专利)号:

    CN201210411192.6

    授权公告号:

    ||||||

    法律状态公告日:

    2018.07.10|||2015.10.07|||2014.05.07

    法律状态类型:

    发明专利申请公布后的视为撤回|||实质审查的生效|||公开

    摘要

    本发明提供了一种用于铜钨合金的化学机械抛光液,其含有水、研磨颗粒、银离子、硫酸根离子、铜腐蚀抑制剂和氧化剂。本发明的抛光液可以在实现铜钨合金高速抛光速度的同时,显著抑制铜表面的腐蚀。

    权利要求书

    权利要求书
    1.  一种化学机械抛光液,其含有水、研磨颗粒、银离子、硫酸根离子、铜腐蚀抑制剂和氧化剂。

    2.  根据权利要求1所述的抛光液,其特征在于:所述研磨颗粒为二氧化硅和/或氧化铝。

    3.  根据权利要求2所述的抛光液,其特征在于:所述研磨颗粒的质量百分比浓度为0.1-20wt%。

    4.  根据权利要求3所述的抛光液,其特征在于:所述研磨颗粒的质量百分比浓度为1-5wt%

    5.  根据权利要求1所述的抛光液,其特征在于:所述银离子来自含银离子的无机盐。

    6.  根据权利要求5所述的抛光液,其特征在于:所述含银离子的无机盐为硝酸银、硫酸银、氟化银和/或高氯酸银。

    7.  根据权利要求5所述的抛光液,其特征在于:所述含银离子的无机盐的质量百分比浓度为0.01-0.5wt%。

    8.  根据权利要求7所述的抛光液,其特征在于:所述含银离子的无机盐的质量百分比浓度为0.05-0.2wt%。

    9.  根据权利要求6所述的抛光液,其特征在于:所述无机盐为硝酸银。

    10.  根据权利要求1所述的抛光液,其特征在于:所述硫酸根离子来自无机硫酸盐。

    11.  根据权利要求10所述的抛光液,其特征在于:所述无机硫酸盐为硫酸铵盐、钾盐、钠盐和/或硫酸季铵盐。

    12.  根据权利要求11所述的抛光液,其特征在于:所述无机硫酸盐的质量百分比为0.05-1wt%。

    13.  根据权利要求12所述的抛光液,其特征在于:所述无机硫酸盐的质量百 分比为0.1-0.5wt%。

    14.  根据权利要求1所述的抛光液,其特征在于:所述铜腐蚀抑制剂选自唑类和/或能吸附在铜表面的表面活性剂。

    15.  根据权利要求14所述的抛光液,其特征在于:所述唑类铜腐蚀抑制剂为三氮唑、苯并三氮唑和/或其衍生物。

    16.  根据权利要求15所述的抛光液,其特征在于:所述唑类腐蚀抑制剂为TAZ和/或BTA。

    17.  根据权利要求14所述的抛光液,其特征在于:所述表面活性剂为含聚氧乙烯醚长链的表面活性剂。

    18.  根据权利要求17所述的抛光液,其特征在于:所述含聚氧乙烯醚长链的表面活性剂为壬基酚聚氧乙烯醚。

    19.  根据权利要求14所述的抛光液,其特征在于:所述铜腐蚀抑制剂的质量百分比浓度为0.05-0.2wt%。

    20.  根据权利要求1所述的抛光液,其特征在于:所述氧化剂选自无机过氧化物。

    21.  根据权利要求20所述的抛光液,其特征在于:所述无机过氧化物为双氧水和/或单过硫酸钾。

    22.  根据权利要求21所述的抛光液,其特征在于:所述过氧化物为双氧水。

    23.  根据权利要求1所述的抛光液,其特征在于:所述无机过氧化物的质量百分比浓度为0.5-6wt%。

    24.  根据权利要求23所述的抛光液,其特征在于:所述无机过氧化物的质量百分比浓度为1-4wt%。

    25.  根据权利要求1所述的抛光液,其特征在于:所述抛光液的PH为值2~5。

    26.  根据权利要求1-25任一项所述的抛光液在铜钨合金中的应用。

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    一种 化学 机械抛光
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