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    重庆时时彩功夫王: 双束共溅射连续多层薄膜镀膜方法及镀膜设备.pdf

    摘要
    申请专利号:

    重庆时时彩单双窍门 www.4mum.com.cn CN201910018338

    申请日:

    20190109

    公开号:

    CN109594055A

    公开日:

    20190409

    当前法律状态:

    公开

    有效性:

    审中

    法律详情: 公开
    IPC分类号: C23C14/56;C23C14/46;C23C14/02 主分类号: C23C14/56;C23C14/46;C23C14/02
    申请人: 伟业智芯(北京)科技有限公司
    发明人: 不公告发明人
    地址: 102101 北京市延庆区康庄镇八达岭开发区风谷四路8号院26号楼
    优先权:
    专利代理机构: 代理人:
    PDF完整版下载: PDF下载
    法律状态
    申请(专利)号:

    CN201910018338

    授权公告号:

    法律状态公告日:

    20190409

    法律状态类型:

    公开

    摘要

    本发明公开一种双束共溅射连续多层薄膜镀膜方法和镀膜设备,所述连续多层薄膜镀膜方法包括:准备靶材;安装工件;设置参数,启动抽气系统;启动辅源,对工件进行离子束表面原位剥离清洗;启动左右二个离子源轰击靶材,使靶材原子沉积在工件表面;旋转靶台,进行第二种薄膜沉积,如此反复。本发明的镀膜设备,包括:真空室;左右侧离子源;工件组件;左右侧靶台;辅源等组成。由于采用二个溅射主源、二个靶台、一个辅源,可一直性安装最多八种靶材,实现不破坏真空的情况下连续溅射制备多层薄膜。同时由于有辅源的存在,可在薄膜制备前对镀膜工件进行原位剥离清洗,使得膜质吸附能力强、均匀性好、致密、内应力小,薄膜质量大大提高。

    权利要求书

    1.一种双束共溅射连续多层薄膜镀膜方法,其特征在于,所述连续多层薄膜镀膜方法包括以下步骤: S1.将真空室(1)内表面清洁干净并进行干燥处理; S2.准备最少一种,最多八种靶材(a,b,c,d,e,f,g,h),将所述靶材(a,b,c,d,e,f,g,h)分别安装在左侧靶台(5)和右侧靶台(6)上; S3.将清洁干燥的镀膜工件(42)安装在工件组件(4)的旋转轴(41)的下方; S4.启动整机系统,设置镀膜参数,启动抽气系统(8),所述抽气系统(8)对所述真空室(1)抽真空; S5.所述真空室(1)的真空度达到设定值后,系统启动辅源(7),所述辅源(7)发射平行或发散辅源离子束(71)对准按一定速率旋转的所述镀膜工件(42),进行离子束表面原位剥离清洗,进一步去除所述镀膜工件(42)表面吸附的水汽或其它污物,提高薄膜的纯度;同时增加所述镀膜工件(42)表面温度,增加薄膜附着力; S6.上述S5的原位剥离清洗工作结束后,系统启动右侧离子源(2)和左侧离子源(3),分别发射聚焦右侧离子束(21)和聚焦左侧离子束(31);右侧离子束(21)轰击位于右侧靶台(6)上表面的靶材(f),使所述靶材(f)产生靶材(f)原子右侧沉积束(22)并沉积在所述旋转镀膜工件(42)表面;左侧离子束(31)轰击位于左侧靶台(5)上表面的靶材(b),使所述靶材(b)产生靶材(b)原子左侧沉积束(32)并沉积在所述旋转镀膜工件(42)表面;由于右侧沉积束(22)和左侧沉积束(32)同时溅射沉积在镀膜工件(42)表面,形成双束共溅射镀膜; S7.膜厚测量仪(9)检测到第一层膜达到设定厚度时,系统旋转左侧靶台(5)和右侧靶台(6)90度,使靶材(c)和靶材(g)处于溅射工位;此时,所述靶材(c)和靶材(g)的靶材原子溅射沉积在所述镀膜工件(42)表面; S8.重复步骤S7,直到完成所有材料的薄膜沉积,这样不破坏真空的情况下实现连续多层薄膜的共溅射镀膜; S9.整机系统启动抽气系统(8)的关闭工作,直到系统完全?;淙?,取出所述镀膜工件(42),完成全部镀膜工作。 2.根据权利要求1所述的双束共溅射连续多层薄膜镀膜方法,其特征在于,所述靶材(a,b,c,d,e,f,g,h)材质可以相同,也可以不同。 3.根据权利要求1或2所述的双束共溅射连续多层薄膜镀膜方法,其特征在于,所述靶材(a,b,c,d,e,f,g,h)材质可以是单质,也可是化合物。 4.根据权利要求1所述的双束共溅射连续多层薄膜镀膜设备,其特征在于,包括: 真空室(1),一种金属壳体,本底真空不低于1×10-5Pa; 左侧离子源(3)和右侧离子源(2),分别安装在所述真空室(1)的左右上方,是一种聚焦离子源,可产生聚焦的左侧离子束(31)和右侧离子束(21); 工件组件(4),安装在所述真空室(1)的正上方,由电机驱动旋转轴(41),实现安装在所述旋转轴(41)下部的镀膜工件(42)行星旋转; 左侧靶台(5)和右侧靶台(6),分别安装在所述真空室(1)的左右中部位置,所述左侧离子束(31)和右侧离子束(21)正好聚焦在左侧靶台(5)和右侧靶台(6)上表面; 辅源(7),安装在所述真空室(1)的正后下方,能发射平行或发散辅源离子束(71),对准镀膜工件(42)进行原位剥离清洗; 膜厚测量仪(9),安装在镀膜工件(42)位置的侧位,对沉积在所述镀膜工件(42)上表面的薄膜进行膜厚测量; 抽气系统(8),安装在所述真空室(1)的正下方,并与所述真空室(1)连通,对真空室(1)抽真空。 5.根据权利要求4所述的双束共溅射连续多层薄膜镀膜设备,其特征在于,所述左侧靶台(5)和右侧靶台(6)是水冷靶台。 6.根据权利要求4所述的双束共溅射连续多层薄膜镀膜设备,其特征在于,所述抽气系统(8)由分子泵(81)、机械泵(82)、插板阀(83)、管路(84)组成。

    关 键 词:
    双束共 溅射 连续 多层 薄膜 镀膜 方法 设备
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