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    重庆时时彩莆田代理: 一种钕铁硼稀土永磁器件的制造方法.pdf

    摘要
    申请专利号:

    重庆时时彩单双窍门 www.4mum.com.cn CN201410107557.5

    申请日:

    2014.03.22

    公开号:

    CN103839671A

    公开日:

    2014.06.04

    当前法律状态:

    授权

    有效性:

    有权

    法律详情: 授权|||实质审查的生效IPC(主分类):H01F 41/02申请日:20140322|||公开
    IPC分类号: H01F41/02; H01F1/057; C23C14/35; C23C14/06 主分类号: H01F41/02
    申请人: 沈阳中北通磁科技股份有限公司
    发明人: 孙宝玉; 陈晓东
    地址: 110168 辽宁省沈阳市浑南新区汇泉东路8号
    优先权:
    专利代理机构: 代理人:
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    法律状态
    申请(专利)号:

    CN201410107557.5

    授权公告号:

    ||||||

    法律状态公告日:

    2016.04.06|||2014.07.02|||2014.06.04

    法律状态类型:

    授权|||实质审查的生效|||公开

    摘要

    本发明公开了一种钕铁硼稀土永磁器件的制造方法,首先成钕铁硼稀土永磁毛坯,之后进行机械加工制成钕铁硼稀土永磁体,之后进行镀膜工序制成钕铁硼稀土永磁器件,镀膜共分3层,第一层为磁控溅射镀层,镀层厚度为:0.02-2μm,第二层为磁控溅射镀一种以上靶材的混合镀层,镀层厚度为:1-20μm,第三层为磁控溅射镀层,镀层厚度为:0.1-5μm;采用本发明的磁控溅射镀膜作稀土永磁器件的表面处理工序,不仅提高了稀土永磁器件的抗腐蚀能力,同时也提高了稀土永磁器件的磁性能。

    权利要求书

    权利要求书
    1.  一种钕铁硼稀土永磁器件的制造方法,其特征在于:首先进行合金熔炼,在熔融状态下将合金浇铸到带水冷却的旋转铜辊上冷却形成合金片,接着进行氢破碎,氢破碎后进行混料,混料后进行气流磨,之后在氮气?;は掠没炝匣炝虾笏偷降;ご懦∪∠蜓够尚?,成形后在?;は淠诜庾?,然后取出进行等静压,之后送入烧结设备烧结和时效制成钕铁硼稀土永磁毛坯,之后进行机械加工制成钕铁硼稀土永磁体,之后在真空镀膜室内进行磁控溅射镀膜工序制成钕铁硼稀土永磁器件,镀膜共分3层,第一层为磁控溅射镀层,镀层厚度为:0.02-2μm,第二层为磁控溅射镀一种以上靶材的混合镀层,镀层厚度为:1-20μm,第三层为磁控溅射镀层,镀层厚度为: 0.1-5μm。

    2.  根据权利要求1所述的一种钕铁硼稀土永磁器件的制造方法,其特征在于:所述的镀膜共分3层,第一层为磁控溅射镀Dy-Al层,第二层为磁控溅射镀Al和Ni-Cr混合镀层,Al和Ni-Cr交替叠加,第三层为磁控溅射镀Al层。

    3.  根据权利要求1所述的一种钕铁硼稀土永磁器件的制造方法,其特征在于:所述的镀膜共分3层,第一层为磁控溅射镀层,镀膜靶材为Al、Dy-Al、Tb-Al、Dy-Fe、Tb-Fe中的一种以上,第二层为磁控溅射镀层,镀膜靶材为Al、Ni-Cr、Ti、Mo、Si、Al2O3、ZrO2、AZO中的一种以上,第三层为磁控溅射镀层,镀膜靶材为Al、Ni-Cr、Ti、Mo、Si、Al2O3、ZrO2、AZO中的一种以上。

    4.  根据权利要求1所述的一种钕铁硼稀土永磁器件的制造方法,其特征在于:所述的镀膜工序前还有喷砂工序,喷砂采用的材料是石英或玻璃微珠、氧化铝、氧化铈、氧化镧、氧化铈和氧化镧的混合物、氧化锆的一种以上,镀膜工序前或者还有喷涂工序,喷涂材料为铝或含铝的化合物、电泳漆中的一种。

    5.  根据权利要求1所述的一种钕铁硼稀土永磁器件的制造方法,其特征在于:所述的镀膜过程中还有钕铁硼稀土永磁器件加热工序,加热温度范围在30-600℃。

    6.  根据权利要求1所述的一种钕铁硼稀土永磁器件的制造方法,其特征在于:所述的镀膜工序后还有热处理工序,热处理温度60-900℃。

    7.  根据权利要求1所述的一种钕铁硼稀土永磁器件的制造方法,其特征在于:所述的真空镀膜室内还设置有阳极层线性离子源,所述的磁控溅射镀膜条件为,温度30~600℃,沉积压强为氩气条件下0.1~1Pa,功率密度为1~20w/cm2,阳极层线性离子源的放电电压100~3000V,离子能量100~2000eV,氩气条件下工作气压0.01~1Pa,所述的镀膜工序中采用不同靶材一个以上的圆柱阴极磁控靶单独镀膜、交替镀膜或同时镀膜。

    8.  根据权利要求1所述的一种钕铁硼稀土永磁器件的制造方法,其特征在于:所述的磁控溅射镀膜过程中还充入氧气,氧气的体积含量为氩气的0.1-5%。

    9.  根据权利要求1所述的一种钕铁硼稀土永磁器件的制造方法,其特征在于:所述的一种钕铁硼稀土永磁器件从器件表面向内延伸1mm范围内主相晶粒中重稀土的含量高于器件主相晶粒中重稀土的平均含量,含量高的重稀土分布在主相R2T14B的外围,形成RH2T14B包围R2T14B的新主相结构,RH2T14B相与R2T14B相间无晶界相。

    10.  一种如权利要求1所述的钕铁硼稀土永磁器件的磁控镀膜设备,其特征在于:该镀膜设备包括真空镀膜室、圆柱阴极磁控靶、阳极层线性离子源、转架和料筐;所述的真空镀膜室由卧式真空壳体、前门和后盖组成,前门和真空壳体通过橡胶密封圈密封,后盖或者焊接在真空壳体上或者通过连接件连接,转架的传动装置安装在后盖上,真空室外的电机传动轴通过动密封装置传送到真空镀膜室内;转架设计在真空镀膜室内,支撑在框架上,框架安装在真空壳体上;转架的轴线与真空壳体的轴线平行,料筐两端有转轴安装在转架上,转轴的轴线与转架的轴线平行,转架围绕真空壳体的轴线公转,料筐即随转架一起公转又自转;所述的圆柱磁控靶安装在真空镀膜室内的后盖上,其轴线与转架轴线平行。

    11.  根据权利要求10所述的一种钕铁硼稀土永磁器件的磁控镀膜设备,其特征在于:该镀膜设备还包括阳极层线性离子源,所述的阳极层线性离子源安装在真空镀膜室内的后盖上,其轴线与转架轴线平行。

    12.  根据权利要求10所述的一种钕铁硼稀土永磁器件的磁控镀膜设备,其特征在于:在所述的真空镀膜室内安装有一个以上的圆柱阴极磁控靶,所述的圆柱阴极磁控靶分别安装在转架的内部和外部,安装在所述的转架内部的圆柱阴极磁控靶的数量为一个以上,安装在转架外部的圆柱阴极磁控靶的数量二个以上;磁控靶或者为单靶结构或者为孪生靶结构,安装在真空镀膜室内的后盖上。

    13.  根据权利要求10所述的一种钕铁硼稀土永磁器件的磁控镀膜设备,其特征在于:所述的圆柱阴极磁控靶内装有多个轴向充磁的磁环,磁环间有导磁环,磁环相对于圆柱阴极磁控靶轴向往复移动,所述的磁环由钕铁硼稀土永磁制造。

    14.  根据权利要求10所述的一种钕铁硼稀土永磁器件的磁控镀膜设备,其特征在于:所述的圆柱阴极磁控靶内或者装有多条径向充磁的磁条,磁条在圆柱阴极磁控靶内沿着圆周分布,磁条间有间隔,磁条的数量为3条以上,磁条相对于圆柱阴极磁控靶材套管同轴转动,所述的磁条由钕铁硼稀土永磁制造。

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