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    玩重庆时时彩挣钱吗: 扭曲指纹的校正方法及系统.pdf

    摘要
    申请专利号:

    重庆时时彩单双窍门 www.4mum.com.cn CN201410214949.1

    申请日:

    2014.05.20

    公开号:

    CN103984929A

    公开日:

    2014.08.13

    当前法律状态:

    授权

    有效性:

    有权

    法律详情: 授权|||实质审查的生效IPC(主分类):G06K 9/00申请日:20140520|||公开
    IPC分类号: G06K9/00 主分类号: G06K9/00
    申请人: 清华大学
    发明人: 冯建江; 周杰; 司轩斌
    地址: 100084 北京市海淀区100084-82信箱
    优先权:
    专利代理机构: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 张大威
    PDF完整版下载: PDF下载
    法律状态
    申请(专利)号:

    CN201410214949.1

    授权公告号:

    ||||||

    法律状态公告日:

    2017.04.19|||2014.09.10|||2014.08.13

    法律状态类型:

    授权|||实质审查的生效|||公开

    摘要

    本发明提出一种扭曲指纹的校正方法及系统,其中方法包括以下步骤:获得多组扭曲参考指纹及与该扭曲参考指纹对应的正常指纹,得到每个扭曲参考指纹的稠密扭曲场及特征,以此来生成扭曲参考指纹库;提取待校正扭曲指纹的特征;在扭曲参考指纹数据库中搜索与待校正扭曲指纹的特征匹配的扭曲参考指纹的特征;获得与特征匹配的扭曲参考指纹对应的稠密扭曲场,并根据该稠密扭曲场对待校正扭曲指纹进行校正。根据本发明的方法,通过生成扭曲参考指纹库,并利用所提取的扭曲指纹的特征在扭曲参考指纹库得到其对应的稠密扭曲场,以对扭曲指纹进行有效地校正,从而方便进一步的分析,同时具有良好的可移植性。

    权利要求书

    权利要求书
    1.  一种扭曲指纹的校正方法,其特征在于,包括以下步骤:
    扭曲参考指纹库生成步骤,获得多组扭曲参考指纹及与该扭曲参考指纹对应的正常指纹,得到每个扭曲参考指纹的稠密扭曲场及特征,以生成扭曲参考指纹库;
    特征提取步骤,提取待校正扭曲指纹的特征;
    特征匹配步骤,在所述扭曲参考指纹库中搜索与所述待校正扭曲指纹的特征匹配的扭曲参考指纹的特征;以及
    校正步骤,获得与特征匹配的所述扭曲参考指纹对应的稠密扭曲场,并根据所述稠密扭曲场对所述待校正扭曲指纹进行校正。

    2.  如权利要求1所述的扭曲指纹的校正方法,其特征在于,所述特征是指纹的方向场或周期图,或者两者的组合。

    3.  如权利要求2所述的扭曲指纹的校正方法,其特征在于,所述多组扭曲参考指纹通过实际采集或者人工合成所获得。

    4.  如权利要求1所述的扭曲指纹的校正方法,其特征在于,在所述特征匹配步骤中,所述待校正扭曲指纹与所述扭曲参考指纹之间的特征相似度大于预设值时,将此扭曲参考指纹作为候选,当相似度大于所述预设值的扭曲参考指纹为多个时,将多个扭曲参考指纹都作为候选,并获得与所述多个候选扭曲参考指纹对应的多个稠密扭曲场,以根据所述多个稠密扭曲场对所述待校正扭曲指纹分别进行校正,得到多个校正结果,以在所述多个校正结果中选取与其所对应的正常指纹匹配分数最高的校正结果作为最终结果。

    5.  如权利要求3所述的扭曲指纹的校正方法,其特征在于,在所述特征匹配步骤中通过如下公式在所述扭曲参考指纹库进行特征匹配,所述公式为,
    s=s10+s20m(w10s10+w20s20)+s1p+s2pm(w1ps1p+w2ps2p),]]>
    其中,s表示所述扭曲参考指纹与所述待校正扭曲指纹的相似度,和分别表示中心之上方向场和中心之下方向场的相似块数,和分别表示和的权值系数,和分别表示中心之上周期图和中心之下周期图的相似块数,和分别表示和的权值系数,m表示所述扭曲参考指纹与所述待校正扭曲指纹重叠区域的总块数。

    6.  一种扭曲指纹的校正系统,其特征在于,包括:
    生成???,用于获得多组扭曲参考指纹及与该扭曲参考指纹对应的正常指纹,得到每个扭曲参考指纹的稠密扭曲场及特征,以生成扭曲参考指纹库;
    提取???,用于提取待校正扭曲指纹的特征;
    特征匹配???,用于在所述扭曲参考指纹库中搜索与所述待校正扭曲指纹的特征匹配的扭曲参考指纹的特征;以及
    校正???,用于获得与特征匹配的所述扭曲参考指纹对应的稠密扭曲场,并根据所述稠密扭曲场对所述待校正扭曲指纹进行校正。

    7.  如权利要求6所述的扭曲指纹的校正系统,其特征在于,所述特征是指纹的方向场或周期图,或者两者的组合。

    8.  如权利要求6所述的扭曲指纹的校正系统,其特征在于,所述生成??橥ü导什杉蛘呷斯ず铣苫竦盟龆嘧榕で慰贾肝?。

    9.  如权利要求6所述的扭曲指纹的校正系统,其特征在于,所述特征匹配??樵谒龃Uで肝朴胨雠で慰粗肝频奶卣飨嗨贫却笥谠ど柚凳?,将此扭曲参考指纹作为候选,当特征相似度大于所述预设值的扭曲参考指纹为多个时,将多个扭曲参考指纹都作为候选,并获得与所述多个候选扭曲参考指纹对应的多个稠密扭曲场,以根据所述多个稠密扭曲场对所述待校正扭曲指纹分别进行校正,得到多个校正结果,以在所述多个校正结果中选取与其所对应的正常指纹匹配分数最高的校正结果作为最终结果。

    10.  如权利要求8所述的扭曲指纹的校正系统,其特征在于,所述特征匹配??橥ü缦鹿皆谒雠で慰贾肝瓶饨刑卣髌ヅ?,所述公式为,
    s=s10+s20m(w10s10+w20s20)+s1p+s2pm(w1ps1p+w2ps2p),]]>
    其中,s表示所述扭曲参考指纹与所述待校正扭曲指纹的相似度,和分别表示中心之上方向场和中心之下方向场的相似块数,和分别表示和的权值系数,和分别表示中心之上周期图和中心之下周期图的相似块数,和分别表示和的权值系数,m表示所述扭曲参考指纹与所述待校正扭曲指纹重叠区域的总块数。

    说明书

    说明书扭曲指纹的校正方法及系统
    技术领域
    本发明涉及指纹识别技术领域,特别涉及一种扭曲指纹的校正方法及系统。
    背景技术
    扭曲是引起指纹错误匹配的一个重要原因,这会对所有的指纹应用产生不良影响,尤其在身份辨识系统中,如黑名单和身份查重等应用。在诸如此类应用中,不法分子很可能故意扭曲其指纹以逃避身份鉴定,所引起的不良后果不言而喻。今天,指纹识别技术在很多应用中发挥着极其重要的作用,因为其和人类的安全息息相关。对于任何一个指纹识别系统,其安全级别等同于其识别技术中的最弱点,这类似于木桶效应。在自动指纹识别系统快速发展的这几十年间,人类已经攻克了指纹识别系统中的很多难题,但挑战仍然存在,扭曲指纹的校正就是其一。扭曲发生的原因主要有三点:1.手指皮肤具有弹性;2.手指并不是平的;3.采集时,采集者使用侧面的力或者力矩。尤其是当侧面的力或者力矩比较大时,指纹将会发生严重扭曲,从而导致匹配失败,进而给不法分子留下可乘之机。
    现有的扭曲指纹处理方式大体分为四类:
    A)指纹传感器的合理设计以及指纹采集者的合理操作。将指纹的采集平面设计成手形的凹槽,在一定程度上限制了手指的活动范围,因而可以减少扭曲;同时采集四指指纹也可减少扭曲;采集者按照刑侦人员设计的合理步骤进行指纹采集,也能减少扭曲。然而这种方法的缺点为:1)不能处理过去已经采集的扭曲指纹;2)在非刑侦应用中,让指纹采集者按照非常严厉的步骤进行指纹采集,往往使人们难以接受,而且效率低下;3)无法应对皮肤本身存在扭曲的指纹,比如不法分子可能通过化学药剂或者外科手术来扭曲他们的手指皮肤。
    B)利用硬件设备进行扭曲检测。在指纹采集仪采集平面下安装压力传感器,并在采集过程中根据压力传感器上力的变化来确定指纹是否扭曲,或者采集指纹按捺的视频,根据视频中多幅图像之间的匹配来判断指纹是否扭曲。这种算法的不足在于:1)需要特殊的压力传感器或者具有视频采集功能的指纹传感器,这增加了硬件的成本和尺寸,不适于许多应用场合;2)不能处理过去已经采集的扭曲指纹;3)无法应对皮肤本身存在扭曲的指纹,即通过化学药剂或者外科手术扭曲的手指的指纹。
    C)利用软件进行扭曲检测。根据扭曲指纹和正常指纹在外观上的差异,利用统计学习 方法判断指纹是否扭曲。但是,此方法只能检测出扭曲指纹,并不能解决将其与对应指纹匹配的问题。
    D)在匹配时容忍扭曲。在指纹匹配算法中对扭曲设置一个门限,为了对付严重的扭曲,门限的设置必须很大。然而大的门限可能导致原本不匹配的细节点相互匹配,从而导致不匹配指纹的相似度上升。
    扭曲校正就是将扭曲指纹变换为正常指纹。扭曲指纹可以视为对正常指纹施加了一个变形场而得到。给定一幅扭曲的指纹图像,扭曲指纹校正的任务就是预测其变形场,并对其做反变换,得到正常指纹。扭曲校正要比扭曲检测复杂得多。因为二者的输入是相同的,都是指纹图像,但是输出不同。扭曲检测需要预测的是一个二值变量(是或否),而扭曲校正需要预测的是一个维度很高的扭曲场。也正是因为扭曲校正问题很困难,在过去的研究中,还没有找到有效的解决方法。
    然而,扭曲校正意义重大,因此,需要一种与现有指纹识别系统兼容性高的、校正准确的扭曲校正方法。
    发明内容
    本发明的目的旨在至少解决上述的技术缺陷之一。
    为此,本发明一方面提供一种扭曲指纹的校正方法。所述方法可以解决无法对扭曲进行有效处理及处理效率低等问题。
    本发明另一方面提供一种扭曲指纹的校正系统。
    有鉴于此,本发明一方面的实施例提出一种扭曲指纹的校正方法,包括以下步骤:扭曲参考指纹库生成步骤,获得多组扭曲参考指纹及与该扭曲参考指纹对应的正常指纹,得到每个扭曲参考指纹的稠密扭曲场及特征,以生成扭曲参考指纹库;特征提取步骤,提取待校正扭曲指纹的特征;特征匹配步骤,在所述扭曲参考指纹库中搜索与所述待校正扭曲指纹的特征匹配的扭曲参考指纹的特征;以及校正步骤,获得与特征匹配的所述扭曲参考指纹对应的稠密扭曲场,并根据所述稠密扭曲场对所述待校正扭曲指纹进行校正。
    根据本发明的方法,通过生成扭曲参考指纹库,并利用所提取的扭曲指纹的特征在扭曲参考指纹库得到其对应的稠密扭曲场,以对扭曲指纹进行有效地校正,从而方便进一步的分析,同时具有良好的可移植性。
    本发明的方案中,所述特征是指纹的方向场或周期图,或者两者的组合。
    本发明的方案中,所述多组扭曲参考指纹通过实际采集或者人工合成所获得。
    本发明的方案中,在所述特征匹配步骤中,所述待校正扭曲指纹与所述扭曲参考指 纹的特征相似度大于预设值时,将此扭曲参考指纹作为候选,当特征相似度大于所述预设值的扭曲参考指纹为多个时,将多个扭曲参考指纹都作为候选,并获得与所述多个候选扭曲参考指纹对应的多个稠密扭曲场,以根据所述多个稠密扭曲场对所述待校正扭曲指纹分别进行校正,得到多个校正结果,以在所述多个校正结果中选取与其所对应的正常指纹匹配分数最高的校正结果作为最终结果。
    本发明的方案中,在所述特征匹配步骤中通过如下公式在所述扭曲参考指纹库进行特征匹配,所述公式为,s=s10+s20m(w10s10+w20s20)+s1p+s2pm(w1ps1p+w2ps2p),]]>其中,s表示所述扭曲参考指纹与所述待校正扭曲指纹的相似度,和分别表示中心之上方向场和中心之下方向场的相似块数,和分别表示和的权值系数,和分别表示中心之上周期图和中心之下周期图的相似块数,和分别表示和的权值系数,m表示所述扭曲参考指纹与所述待校正扭曲指纹重叠区域的总块数。
    本发明另一方面的实施例提出一种扭曲指纹的校正系统,包括:生成???,用于获得多组扭曲参考指纹及与该扭曲参考指纹对应的正常指纹,得到每个扭曲参考指纹的稠密扭曲场及特征,以生成扭曲参考指纹库;提取???,用于提取待校正扭曲指纹的特征;特征匹配???,用于在所述扭曲参考指纹库中搜索与所述待校正扭曲指纹的特征匹配的扭曲参考指纹的特征;以及校正???,用于获得与特征匹配的所述扭曲参考指纹对应的稠密扭曲场,并根据所述稠密扭曲场对所述待校正扭曲指纹进行校正。
    根据本发明的系统,通过生成扭曲参考指纹库,并利用所提取的扭曲指纹的特征在扭曲参考指纹库得到其对应的稠密扭曲场,以对扭曲指纹进行有效地校正,从而方便进一步的分析,同时具有良好的可移植性。
    本发明的方案中,所述特征是指纹的方向场或周期图,或者两者的组合。
    本发明的方案中,所述生成??橥ü导什杉蛘呷斯ず铣苫竦盟龆嘧榕で慰贾肝?。
    本发明的方案中,所述匹配??樵谒龃Uで肝朴胨雠で慰贾肝频奶卣飨嗨贫却笥谠ど柚凳?,将此扭曲参考指纹作为候选,当特征相似度大于所述预设值的扭曲参考指纹为多个时,将多个扭曲参考指纹都作为候选,并获得与所述多个候选扭曲参考指纹对应的多个稠密扭曲场,以根据所述多个稠密扭曲场对所述待校正扭曲指纹分别进行校正,得到多个校正结果,以在所述多个校正结果中选取匹配分数最高校正结果作为最终结果。
    本发明的方案中,所述特征匹配??橥ü缦鹿皆谒雠で慰贾肝瓶饨刑卣髌ヅ?,所述公式为,s=s10+s20m(w10s10+w20s20)+s1p+s2pm(w1ps1p+w2ps2p),]]>其中,s表示所述 扭曲参考指纹与所述待校正扭曲指纹的相似度,和分别表示中心之上方向场和中心之下方向场的相似块数,和分别表示和的权值系数,和分别表示中心之上周期图和中心之下周期图的相似块数,和分别表示和的权值系数,m表示所述扭曲参考指纹与所述待校正扭曲指纹重叠区域的总块数。
    本发明附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本发明的实践了解到。
    附图说明
    本发明上述的和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解,其中:
    图1为根据本发明一个实施例的扭曲指纹的校正方法的流程图;
    图2为根据本发明一个实施例的扭曲指纹的校正示意图;
    图3为根据本发明实施例的方法进行校正后的结果;以及
    图4为根据本发明的扭曲指纹的校正系统结构框图。
    具体实施方式
    下面详细描述本发明的实施例,实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,仅用于解释本发明,而不能理解为对本发明的限制。
    在本发明的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
    在本发明的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
    图1为根据本发明一个实施例的扭曲指纹的校正方法的流程图。图2为根据本发明一个实施例的扭曲指纹的校正示意图。如图1和图2所示,根据本发明一个实施例的扭曲指纹的校正方法包括以下步骤:获得多组扭曲参考指纹及与该扭曲参考指纹对应的正 常指纹,得到每个扭曲参考指纹的稠密扭曲场及特征,以生成扭曲参考指纹库(步骤101)。提取待校正扭曲指纹的特征(步骤103)。在扭曲参考指纹库中搜索与待校正扭曲指纹的特征匹配的扭曲参考指纹的特征(步骤105)?;竦糜肫ヅ涞呐で慰贾肝贫杂Φ某砻芘で?,并根据稠密扭曲场对待校正扭曲指纹进行校正。(步骤107)。
    在步骤101中,多组扭曲参考指纹可以通过实际采集或者人工合成所获得,且特征可以是指纹的方向场或周期图中的一个也可以是两者的结合。具体而言,可将手指以正常的采集方式按在指纹采集器上得到正常指纹。然后将手指向多个方向扭曲,获得多个扭曲指纹。再根据指纹匹配算法或者手工标注得到这两个指纹之间的细节点等对应点。最后利用多项式模型、薄板样条模型等数学模型拟合对应点,进而可以得到该扭曲指纹的稠密扭曲场。在获得稠密扭曲场之后,将每个稠密扭曲场作用于一个或者多个正常指纹,以生成扭曲参考指纹库。
    在本发明的一个实施例中,稠密扭曲场可以包含两个矩阵,即X矩阵和Y矩阵,X矩阵中每个元素代表相应位置在x方向的偏离位移,Y矩阵中每个元素代表相应位置在y方向的偏离位移。
    在步骤103和步骤105中,所提取的特征可以是方向场或者周期图,或者是方向场和周期图的组合。在本发明的一个实施例中,以方向场和周期图的组合进行进一步说明。从待校正扭曲指纹提取方向场和周期图,并根据所提取的方向场和周期图,与扭曲参考指纹库中每个指纹的方向场和周期图进行特征匹配。其中相似度高低通过计算两者的相似度进行区分。其中相似度通过如下公式计算,s=s10+s20m(w10s10+w20s20)+s1p+s2pm(w1ps1p+w2ps2p),]]>其中,s表示所述扭曲参考指纹与所述待校正扭曲指纹的相似度,和分别表示中心之上方向场和中心之下方向场的相似块数,和分别表示和的权值系数,和分别表示中心之上周期图和中心之下周期图的相似块数,和分别表示和的权值系数,m表示所述扭曲参考指纹与所述待校正扭曲指纹重叠区域的总块数。在本发明的一些实施例中,方向场的相似度阈值为10°,周期图的相似度阈值是1个像素。另外,寻找最大相似度的方法可以有多种,例如遍历整个参数空间的方法、基于特征配准的方法、基于推广霍夫变换的方法以及它们的组合等,在此不再一一进行说明。
    在步骤107中,通过上述过程在扭曲参考指纹库中获得与待校正扭曲指纹对应的稠密扭曲场,并对该扭曲场进行几何变换等处理(例如对稠密扭曲场在X矩阵和Y矩阵进行矢量运算)得到正常指纹。图3为根据本发明实施例的方法进行校正后的结果。如图3所示,左下角的数字表示输入扭曲指纹(或者校正后的指纹)与档案指纹的匹配分数。从图3可知,输入扭曲指纹和档案指纹之间存在比较大的扭曲,因而直接进行匹配 的匹配分数较低,而校正后的输入指纹和档案指纹之间的扭曲大大降低,从而匹配分数大大提高。
    根据本发明的方法,通过生成扭曲参考指纹库,并利用所提取的扭曲指纹的特征在扭曲参考指纹库得到其对应的稠密扭曲场,以对扭曲指纹进行有效地校正,从而方便进一步的分析,同时具有良好的可移植性。
    图4为根据本发明一个实施例的扭曲指纹的校正系统的流程图。如图4所示,根据本发明一个实施例的扭曲指纹的校正系统包括:生成???00、提取???00、匹配???00和校正???00。
    具体地,生成???00用于获得多组扭曲参考指纹及与该扭曲参考指纹对应的正常指纹,得到每个扭曲参考指纹的稠密扭曲场及特征,以生成扭曲参考指纹库。提取???00用于提取待校正扭曲指纹的特征。匹配???00用于在扭曲参考指纹库中搜索与待校正扭曲指纹的特征匹配的扭曲参考指纹的特征。校正???00用于获得与匹配的扭曲参考指纹对应的稠密扭曲场,并根据稠密扭曲场对待校正扭曲指纹进行校正。
    在本发明的一个实施例中,生成???00可以通过实际采集或者人工合成所获得多组扭曲参考指纹,并且特征可以是指纹的方向场或周期图中的一个,也可以是两者的结合。具体而言,可将手指以正常的采集方式按在指纹采集器上得到正常指纹。然后将手指向多个方向扭曲,获得多个扭曲指纹。再根据指纹匹配算法或者手工标注得到这两个指纹之间的细节点等对应点。最后生成???00根据多项式模型、薄板样条模型等数学模型拟合对应点,进而可以得到该扭曲指纹的稠密扭曲场。在获得稠密扭曲场之后,生成???00将每个稠密扭曲场作用于一个或者多个正常指纹,以生成扭曲参考指纹库。
    在本发明的一个实施例中,稠密扭曲场可以包含两个矩阵,即X矩阵和Y矩阵,X矩阵中每个元素代表相应位置在x方向的偏离位移,Y矩阵中每个元素代表相应位置在y方向的偏离位移。
    在本发明的一些实例中,提取???00所提取的特征可以是方向场或者周期图,或者是方向场和周期图的组合。在示例中以方向场和周期图的组合进行进一步说明。提取???00从待校正扭曲指纹提取方向场和周期图,匹配???00根据所提取的方向场和周期图,与扭曲参考指纹库中每个指纹的方向场和周期图进行特征匹配。其中相似度高低通过计算两者的相似度进行区分。其相似度通过如下公式计算,s=s10+s20m(w10s10+w20s20)+s1p+s2pm(w1ps1p+w2ps2p),]]>其中,s表示所述扭曲参考指纹与所述待校正扭曲指纹的相似度,和分别表示中心之上方向场和中心之下方向场的相似块数,和分别表示和的权值系数,和分别表示中心之上周期图和中心之下周期图的相似块数,和分别表示和的权值系数,m表示所述扭曲参考指纹与 所述待校正扭曲指纹重叠区域的总块数。
    在本发明的一些实施例中,方向场的相似度阈值为10°,周期图的相似度阈值是1个像素。另外,寻找最大相似度的方法可以有多种,例如遍历整个参数空间的方法、基于特征配准的方法、基于推广霍夫变换的方法以及它们的组合等,在此不再一一进行说明。
    在本发明的一个实施例中,校正???00通过上述过程在扭曲参考指纹库中获得与待校正扭曲指纹对应的稠密扭曲场,并对该扭曲场进行几何变换等处理(例如对稠密扭曲场在X矩阵和Y矩阵进行矢量运算)得到正常指纹。图3为根据本发明实施例的方法进行校正后的结果。如图3所示,左下角的数字表示输入扭曲指纹(或者校正后的指纹)与档案指纹的匹配分数。从图3可知,输入扭曲指纹和档案指纹之间存在比较大的扭曲,因而直接进行匹配的匹配分数较低,而校正后的输入指纹和档案指纹之间的扭曲大大降低,从而匹配分数大大提高。
    根据本发明的系统,通过生成扭曲参考指纹库,并利用所提取的扭曲指纹的特征在扭曲参考指纹库得到其对应的稠密扭曲场,以对扭曲指纹进行有效地校正,从而方便进一步的分析,同时具有良好的可移植性。
    尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例,可以理解的是,上述实施例是示例性的,不能理解为对本发明的限制,本领域的普通技术人员在不脱离本发明的原理和宗旨的情况下在本发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。

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