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    重庆时时彩只买34567: 二元掩模铬金属膜去除方法.pdf

    摘要
    申请专利号:

    重庆时时彩单双窍门 www.4mum.com.cn CN201410100820.8

    申请日:

    2014.03.18

    公开号:

    CN103869607A

    公开日:

    2014.06.18

    当前法律状态:

    驳回

    有效性:

    无权

    法律详情: 发明专利申请公布后的驳回IPC(主分类):G03F 1/82申请公布日:20140618|||实质审查的生效IPC(主分类):G03F 1/82申请日:20140318|||公开
    IPC分类号: G03F1/82(2012.01)I 主分类号: G03F1/82
    申请人: 无锡中微掩模电子有限公司
    发明人: 尤春; 王兴平; 陈友篷
    地址: 214135 江苏省无锡市新区菱湖大道202号
    优先权:
    专利代理机构: 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 代理人: 殷红梅
    PDF完整版下载: PDF下载
    法律状态
    申请(专利)号:

    CN201410100820.8

    授权公告号:

    ||||||

    法律状态公告日:

    2018.02.09|||2014.07.16|||2014.06.18

    法律状态类型:

    发明专利申请公布后的驳回|||实质审查的生效|||公开

    摘要

    本发明涉及一种二元掩模铬金属膜去除方法,其所述二元掩模铬金属膜去除方法包括如下步骤:a.在镀有铬金属膜的基板上涂布光刻胶层;b.利用光刻胶掩模板对上述光刻胶层进行图形化,以在所述光刻胶层上得到光刻胶掩模图形;c.利用光刻胶掩模板对光刻胶层的光刻胶掩模图形进行氧等离子体处理,以利用氧等离子体去除掩模图形内对应的有机物残留;d.去除上述光刻胶掩模板并利用光刻胶掩模图形作为?;げ?,对铬金属膜进行湿法刻蚀,以在铬金属膜上形成金属膜图形;e.去除上述光刻胶层。本发明工艺步骤简单,能对有机物残留进行有效去除,避免铬残留,提高二元掩模的成品率,降低加工成本,适应范围广,安全可靠。

    权利要求书

    权利要求书
    1.  一种二元掩模铬金属膜去除方法,其特征是,所述二元掩模铬金属膜去除方法包括如下步骤:
    (a)、在镀有铬金属膜(2)的基板(1)上涂布光刻胶层(3);
    (b)、利用光刻胶掩模板对上述光刻胶层(3)进行图形化,以在所述光刻胶层(3)上得到光刻胶掩模图形(4);
    (c)、利用光刻胶掩模板对光刻胶层(3)的光刻胶掩模图形(4)进行氧等离子体处理,以利用氧等离子体去除掩模图形(4)内对应的有机物残留(5);
    (d)、去除上述光刻胶掩模板并利用光刻胶掩模图形(4)作为?;げ?,对铬金属膜(2)进行湿法刻蚀,以在铬金属膜(2)上形成金属膜图形;
    (e)、去除上述光刻胶层(3)。

    2.  根据权利要求1所述的二元掩模铬金属膜去除方法,其特征是:所述步骤(c)中,进行氧等离子处理时,氧气的流量为18~100毫升/分钟,压力为85mTorr~100mTorr,垂直射频功率为100W~500W,横向射频功率为0~10W。

    3.  根据权利要求1所述的二元掩模铬金属膜去除方法,其特征是:所述基板(1)包括石英玻璃。

    4.  根据权利要求1所述的二元掩模铬金属膜去除方法,其特征是:所述有机物残留(5)为光刻胶残留。

    关 键 词:
    二元 掩模铬 金属膜 去除 方法
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