• 四川郎酒股份有限公司获第十二届人民企业社会责任奖年度环保奖 2019-05-13
  • 银保监会新规剑指大企业多头融资和过度融资 2019-05-12
  • 韩国再提4国联合申办世界杯 中国网友无视:我们自己来 2019-05-11
  • 中国人为什么一定要买房? 2019-05-11
  • 十九大精神进校园:风正扬帆当有为 勇做时代弄潮儿 2019-05-10
  • 粽叶飘香幸福邻里——廊坊市举办“我们的节日·端午”主题活动 2019-05-09
  • 太原设禁鸣路段 设备在测试中 2019-05-09
  • 拜耳医药保健有限公司获第十二届人民企业社会责任奖年度企业奖 2019-05-08
  • “港独”没出路!“梁天琦们”该醒醒了 2019-05-07
  • 陈卫平:中国文化内涵包含三方面 文化复兴表现在其中 2019-05-06
  • 人民日报客户端辟谣:“合成军装照”产品请放心使用 2019-05-05
  • 【十九大·理论新视野】为什么要“建设现代化经济体系”?   2019-05-04
  • 聚焦2017年乌鲁木齐市老城区改造提升工程 2019-05-04
  • 【专家谈】上合组织——构建区域命运共同体的有力实践者 2019-05-03
  • 【华商侃车NO.192】 亲!楼市火爆,别忘了买车位啊! 2019-05-03
    • / 7
    • 下载费用:20 金币  

    重庆时时彩龙虎和口诀: 采用光刻胶剥离制备斜坡状边缘金属膜的工艺方法.pdf

    摘要
    申请专利号:

    重庆时时彩单双窍门 www.4mum.com.cn CN201410084813.3

    申请日:

    2014.03.10

    公开号:

    CN103869637A

    公开日:

    2014.06.18

    当前法律状态:

    驳回

    有效性:

    无权

    法律详情: 发明专利申请公布后的驳回IPC(主分类):G03F 7/42申请公布日:20140618|||实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/42申请日:20140310|||公开
    IPC分类号: G03F7/42; G03F7/00 主分类号: G03F7/42
    申请人: 中国电子科技集团公司第五十五研究所
    发明人: 吴璟; 吴杰; 禹淼; 黄旼; 朱健; 郁元卫
    地址: 210016 江苏省南京市中山东路524号
    优先权:
    专利代理机构: 南京君陶专利商标代理有限公司 32215 代理人: 沈根水
    PDF完整版下载: PDF下载
    法律状态
    申请(专利)号:

    CN201410084813.3

    授权公告号:

    ||||||

    法律状态公告日:

    2017.10.31|||2014.07.16|||2014.06.18

    法律状态类型:

    发明专利申请公布后的驳回|||实质审查的生效|||公开

    摘要

    本发明采用光刻胶剥离制备斜坡状边缘金属膜的工艺方法,至少包括采用多层光刻胶的胶膜结构作为镀膜的牺牲层材料,图形化后上层胶比下层胶要多伸出一段距离悬空,悬挂在基板的上方一定高度,然后带胶镀膜,剥离成膜,具体包括基板涂覆下层胶,固化;继续涂覆上层胶,固化;与基板原有图形对准,图形化,形成上窄下宽式镀膜窗口;利用物理气相淀积、蒸发、溅射、电镀镀膜方式,基板上淀积薄膜结构;剥离去掉胶牺牲层,留在基板上的镀膜图形带有斜坡状边缘。优点:方便实用简单可靠,成本低,薄膜表面顺滑无毛刺,膜层边缘结合力好,避免断裂或分层剥离,斜坡坡度灵活可控,适用于MEMS、IC、NEMS中的声、气敏、压阻薄膜传感器、集成电路。

    权利要求书

    权利要求书
    1.  采用光刻胶剥离制备斜坡状边缘金属膜的工艺方法,其特征是至少包括采用多层光刻胶的胶膜结构作为镀膜的牺牲层材料,图形化后上层胶比下层胶要多伸出一段距离悬空,悬空高度即为下层胶的厚度,然后带胶镀膜,剥离成膜,具体步骤包括如下:
    1)基板涂覆下层胶,固化;
    2)继续涂覆上层胶,固化;
    3)与基板原有图形对准,图形化,形成上窄下宽式镀膜窗口;
    4)利用物理气相淀积、蒸发、溅射、电镀镀膜方式,基板上可淀积厚度小于1μm的薄膜结构;
    5)剥离去掉胶牺牲层,留在基板上的镀膜图形带有斜坡状边缘。

    2.  根据权利要求1所述的采用光刻胶剥离制备斜坡状边缘金属膜的工艺方法,其特征在于,所述的上层胶属于光敏型光刻胶,利用对应的各种UV光刻机,紫外光波长190nm~400nm实现胶膜曝光,通过显影液TMAH碱性溶液实现多层胶膜的图形化。

    3.  根据权利要求1所述的采用光刻胶剥离制备斜坡状边缘金属膜的工艺方法,其特征在于,所述的下层胶为剥离厚胶ProLIFTTM100,胶的厚度1~100μm。

    4.  根据权利要求2所述的采用光刻胶剥离制备斜坡状边缘金属膜的工艺方法,其特征在于,所述的显影液溶解多层胶膜结构时具有底切效应,即相同时间内下层胶溶解速率快于上层胶的溶解速率,多层胶膜结构形成呈梯度的倒阶梯形貌,上层胶比下层胶要多出一段微小胶膜梁,使得镀膜窗口呈现上窄下宽式结构。

    5.  根据权利要求3所述的采用光刻胶剥离制备斜坡状边缘金属膜的工艺方法,其特征在于,所述的下层胶经过不同转速的涂覆/固化后改变厚度,也改变着上层胶与基板之间的间距,可测可控,最终控制薄膜边缘斜坡的厚度及坡度。

    6.  根据权利要求1所述的采用光刻胶剥离制备斜坡状边缘金属膜的工艺方法,其特征在于,所述的物理气相淀积、蒸发、溅射、电镀各种微电子沉积薄膜方法,沉积过程中材料粒子的电子束流,通过上窄下宽式镀膜窗口时引起衍射和散射效应,导致沉积粒子绕过伸出的一段微小胶膜梁而沉积到下层胶的底切窗口区域内形成斜坡状边缘。

    7.  根据权利要求6所述的采用光刻胶剥离制备斜坡状边缘金属膜的工艺方法,其特征在于,所述的沉积薄膜厚度不高于下层胶的厚度。

    8.  根据权利要求1所述的采用光刻胶剥离制备斜坡状边缘金属膜的工艺方法,其特征在于,所述的胶的涂覆/剥离工艺可多次重复,结合光刻机精确对准性能,最终实现多层薄膜结构沉积。

    9.  根据权利要求6所述的采用光刻胶剥离制备斜坡状边缘金属膜的工艺方法,其特征在于,所述的各种微电子、半导体化合物材料的镀膜,包括Au、Ti、Pt、Mo、Cr、Sn、In、Ni、Cu 金属膜。

    关 键 词:
    采用 光刻 剥离 制备 斜坡 边缘 金属膜 工艺 方法
      专利查询网所有资源均是用户自行上传分享,仅供网友学习交流,未经上传用户书面授权,请勿作他用。
    0条评论

    还可以输入200字符

    暂无评论,赶快抢占沙发吧。

    关于本文
    本文标题:采用光刻胶剥离制备斜坡状边缘金属膜的工艺方法.pdf
    链接地址://www.4mum.com.cn/p-6126204.html
    关于我们 - 网站声明 - 网站地图 - 资源地图 - 友情链接 - 网站客服客服 - 联系我们

    [email protected] 2017-2018 www.4mum.com.cn网站版权所有
    经营许可证编号:粤ICP备17046363号-1 
     


    收起
    展开
  • 四川郎酒股份有限公司获第十二届人民企业社会责任奖年度环保奖 2019-05-13
  • 银保监会新规剑指大企业多头融资和过度融资 2019-05-12
  • 韩国再提4国联合申办世界杯 中国网友无视:我们自己来 2019-05-11
  • 中国人为什么一定要买房? 2019-05-11
  • 十九大精神进校园:风正扬帆当有为 勇做时代弄潮儿 2019-05-10
  • 粽叶飘香幸福邻里——廊坊市举办“我们的节日·端午”主题活动 2019-05-09
  • 太原设禁鸣路段 设备在测试中 2019-05-09
  • 拜耳医药保健有限公司获第十二届人民企业社会责任奖年度企业奖 2019-05-08
  • “港独”没出路!“梁天琦们”该醒醒了 2019-05-07
  • 陈卫平:中国文化内涵包含三方面 文化复兴表现在其中 2019-05-06
  • 人民日报客户端辟谣:“合成军装照”产品请放心使用 2019-05-05
  • 【十九大·理论新视野】为什么要“建设现代化经济体系”?   2019-05-04
  • 聚焦2017年乌鲁木齐市老城区改造提升工程 2019-05-04
  • 【专家谈】上合组织——构建区域命运共同体的有力实践者 2019-05-03
  • 【华商侃车NO.192】 亲!楼市火爆,别忘了买车位啊! 2019-05-03