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    重庆时时彩龙虎手机app: 硬掩模组合物的单体、硬掩模组合物及形成图案的方法.pdf

    摘要
    申请专利号:

    重庆时时彩单双窍门 www.4mum.com.cn CN201310535509.1

    申请日:

    2013.11.01

    公开号:

    CN103910610A

    公开日:

    2014.07.09

    当前法律状态:

    授权

    有效性:

    有权

    法律详情: 授权|||实质审查的生效IPC(主分类):C07C 39/12申请日:20131101|||公开
    IPC分类号: C07C39/12; G03F7/004; G03F7/00 主分类号: C07C39/12
    申请人: 第一毛织株式会社
    发明人: 李范珍; 金润俊; 赵娟振
    地址: 韩国庆尚北道
    优先权: 2012.12.28 KR 10-2012-0157576
    专利代理机构: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 余刚;张英
    PDF完整版下载: PDF下载
    法律状态
    申请(专利)号:

    CN201310535509.1

    授权公告号:

    ||||||

    法律状态公告日:

    2016.08.24|||2014.08.06|||2014.07.09

    法律状态类型:

    授权|||实质审查的生效|||公开

    摘要

    本发明披露了一种硬掩模组合物的单体、硬掩模组合物及形成图案的方法。具体地,本发明披露了由以下化学式1表示的用于硬掩模组合物的单体、包含该单体的硬掩模组合物、以及利用硬掩模组合物来形成图案的方法。在化学式1中,A1至A4、X1至X3、M和n与在具体实施方式中描述的相同,[化学式1]

    权利要求书

    权利要求书
    1.  一种由以下化学式1表示的用于硬掩模组合物的单体:
    [化学式1]

    其中,在上述化学式1中,
    A1是脂族环状基团或芳族环状基团,
    A2至A4各自独立地为苯基,
    X1至X3各自独立地为羟基、亚硫?;?、硫醇基、氰基、取代或未取代的氨基、取代或未取代的C1至C30烷基、取代或未取代的C1至C20烷基胺基团、或取代或未取代的C1至C30烷氧基,
    M是CRa、SiRb、N、P、PRcRd、或PRe,以及
    n是范围为1至4的整数,
    条件是,在M中,Ra、Rb、Rc和Rd各自独立地为氢、取代或未取代的C1至C10烷基、卤素原子、含卤素基团、或它们的组合,以及
    Re是氧(O)或硫(S)。

    2.  根据权利要求1所述的单体,其中,所述A1是取代或未取代的环状基团,所述环状基团选自以下组1:
    [组1]

    其中,在所述组1中,
    Z1和Z2各自独立地为单键、取代或未取代的C1至C20亚烷基、取代或未取代的C3至C20环亚烷基、取代或未取代的C6至C20亚芳基、取代或未取代的C2至C20杂亚芳基、取代或未取代的C2至C20亚烯基、取代或未取代的C2至C20亚炔基、C=O、NRf、氧(O)、硫(S)、或它们的组合,其中Rf是氢、取代或未取代的C1至C10烷基、卤素原子、或它们的组合,以及
    Z3至Z17独立地是C=O、NRg、氧(O)、硫(S)、CRhRi、或它们的组合,其中Rg至Ri各自独立地为氢、取代或未取代的C1至C10烷基、卤素原子、含卤素基团、或它们的组合。

    3.  根据权利要求1所述的单体,其中,所述X1是羟基。

    4.  根据权利要求1所述的单体,所述单体由以下化学式2、化学式3、或化学式4表示:
    [化学式2]

    [化学式3]

    [化学式4]

    其中,在上述化学式2至4中,
    Xa、Xb、Xc、Xd、Xe、Xf、Xg、Xh、Xi、Xj、Xk和Xl独立地是羟基、亚硫?;?、硫醇基、氰基、取代或未取代的氨基、取代或未取代的C1至C30烷基、取代或未取代的C1至C20烷基胺基团、或取代或未取代的C1至C30烷氧基。

    5.  根据权利要求1所述的单体,其中,所述单体具有300至3,000的分子量。

    6.  一种硬掩模组合物,包含:
    由以下化学式1表示的单体以及
    溶剂,
    [化学式1]

    其中,在上述化学式1中,
    A1是脂族环状基团或芳族环状基团,
    A2至A4各自独立地为苯基,
    X1至X3各自独立地为羟基、亚硫?;?、硫醇基、氰基、取代或未取代的氨基、取代或未取代的C1至C30烷基、取代或未取代的C1至C20烷基胺基团、或取代或未取代的C1至C30烷氧基,
    M是CRa、SiRb、N、P、PRcRd、或PRe,以及
    n是范围为1至4的整数,
    条件是,在M中,Ra、Rb、Rc和Rd各自独立地为氢、取代或未取代的C1至C10烷基、卤素原子、含卤素基团、或它们的组合,以及
    Re是氧(O)或硫(S)。

    7.  根据权利要求6所述的硬掩模组合物,其中,所述A1是取代或未取代的环状基团,所述环状基团选自以下组1:
    [组1]

    其中,在所述组1中,
    Z1和Z2各自独立地为单键、取代或未取代的C1至C20亚烷基、取代或未取代的C3至C20环亚烷基、取代或未取代的C6至C20亚芳基、取代或未取代的C2至C20杂亚芳基、取代或未取代的C2至C20亚烯基、取代或未取代的C2至C20亚炔基、C=O、NRf、氧(O)、硫(S)、或它们的组合,其中Rf是氢、取代或未取代的C1至C10烷基、卤素原子、或它们的组合,以及
    Z3至Z17独立地是C=O、NRg、氧(O)、硫(S)、CRhRi、或它们的组合,其中Rg至Ri各自独立地为氢、取代或未取代的C1至C10烷基、卤素原子、含卤素基团、或它们的组合。

    8.  根据权利要求6所述的硬掩模组合物,其中,所述X1是羟基。

    9.  根据权利要求6所述的硬掩模组合物,其中,所述单体由以下化学式2、化学式3、或化学式4表示:
    [化学式2]

    [化学式3]

    [化学式4]

    其中,在上述化学式2至4中,
    Xa、Xb、Xc、Xd、Xe、Xf、Xg、Xh、Xi、Xj、Xk和Xl独立地是羟基、亚硫?;?、硫醇基、氰基、取代或未取代的氨基、取代或未取代的C1至C30烷基、取代或未取代的C1至C20烷基胺基团、或取代或未取代的C1至C30烷氧基。

    10.  根据权利要求6所述的硬掩模组合物,其中,所述单体具有300至3,000的分子量。

    11.  根据权利要求6所述的硬掩模组合物,其中,基于所述硬掩模组合物的总量,以1至50wt%的量包含所述单体。

    12.  一种形成图案的方法,包括
    在衬底上提供材料层,
    在所述材料层上施加根据权利要求6所述的硬掩模组合物,
    热处理所述硬掩模组合物以形成硬掩模层,
    在所述硬掩模层上形成含硅薄层,
    在所述含硅薄层上形成光致抗蚀剂层,
    暴露和显影所述光致抗蚀剂层以形成光致抗蚀剂图案,
    利用所述光致抗蚀剂图案,选择性地除去所述含硅薄层和所述硬掩模层,以暴露所述材料层的一部分,以及
    蚀刻所述材料层的暴露部分。

    13.  根据权利要求12所述的方法,其中,利用旋涂方法来施加所述硬掩模组合物。

    关 键 词:
    模组 单体 形成 图案 方法
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    本文标题:硬掩模组合物的单体、硬掩模组合物及形成图案的方法.pdf
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