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    重庆时时彩带人赚钱qq: 光刻胶图案修剪方法.pdf

    摘要
    申请专利号:

    重庆时时彩单双窍门 www.4mum.com.cn CN201310757477.X

    申请日:

    2013.12.31

    公开号:

    CN103913946A

    公开日:

    2014.07.09

    当前法律状态:

    实审

    有效性:

    审中

    法律详情: 实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/00申请日:20131231|||公开
    IPC分类号: G03F7/00; G03F7/40; H01L21/027 主分类号: G03F7/00
    申请人: 罗门哈斯电子材料有限公司
    发明人: G·珀勒斯; C-B·徐; K·劳维尔
    地址: 美国马萨诸塞州
    优先权: 2012.12.31 US 61/748,035
    专利代理机构: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 陈哲锋
    PDF完整版下载: PDF下载
    法律状态
    申请(专利)号:

    CN201310757477.X

    授权公告号:

    |||

    法律状态公告日:

    2014.08.06|||2014.07.09

    法律状态类型:

    实质审查的生效|||公开

    摘要

    光刻胶图案修剪方法。提供修剪光刻胶图案的方法。该方法包括:(a)提供半导体衬底;(b)在衬底上形成光刻胶图案,其中由化学放大光刻胶组合物来形成光刻胶图案,该化学放大光刻胶组合物包括含有酸不稳定性基团的母体聚合物;光生酸剂和溶剂;(c)将光刻胶修剪组合物涂覆到衬底上的光刻胶图案之上,其中,该修剪组合物包括:母体聚合物,不含氟的芳香酸;以及溶剂;(d)加热涂覆后的衬底,从而改变光刻胶图案表面区域中的光刻胶母体聚合物的极性;以及(e)使光刻胶图案接触清洗剂,除去光刻胶图案的表面区域,从而形成经修剪的光刻胶图案。该方法特别适用于半导体装置的制造中。

    权利要求书

    权利要求书
    1.  一种修剪光刻胶图案的方法,所述方法包括:
    (a)提供半导体衬底;
    (b)在衬底上形成光刻胶图案,其中由化学放大光刻胶组合物形成光刻胶图案,所述化学放大光刻胶组合物包括:包含酸不稳定性基团的母体聚合物;光生酸剂;和溶剂;
    (c)将光刻胶修剪组合物涂覆到衬底上的光刻胶图案之上,其中,该修剪组合物包括:母体聚合物,不含氟的芳香酸;以及溶剂;
    (d)加热涂覆后的衬底,从而改变光刻胶图案表面区域中的光刻胶母体聚合物的极性;
    (e)使光刻胶图案接触清洗剂,除去光刻胶图案的表面区域,从而形成经修剪的光刻胶图案。

    2.  如权利要求1的方法,其中,芳香酸包括通式(I)的酸:

    其中:R1单独表示取代或未取代的C1-C20烷基,取代或未取代的C5-C20芳基,或者它们的组合,可选择地包含一个或多个选自羰基、羰氧基、磺酰胺基、醚、硫醚,取代或未取代的亚烷基基团,或者它们的组合的基团;Z1单独表示选自羧基、羟基、硝基、氰基、C1到C5烷氧基、甲酰和磺酸的基团;a和b是独立的从0到5的整数;a+b为5或者更小。

    3.  如权利要求1的方法,其中,芳香酸包括通式(II)的酸:

    其中:R2和R3均单独表示取代或未取代的C1-C20烷基,取代或未取代的 C5-C16芳基,或者它们的组合,可选择地包含一个或多个选自羰基、羰氧基、磺酰胺基、醚、硫醚,取代或未取代的亚烷基基团,或者它们的组合的基团;Z2和Z3均单独表示选自羧基、羟基、硝基、氰基、C1到C5烷氧基、甲酰和磺酸的基团;c和d是独立的从0到4的整数;c+d为4或者更??;e和f是独立的从0到3的整数;并且e+f为3或者更小。

    4.  如权利要求1的方法,其中,芳香酸包括通式(III)或(IV)的酸:

    其中:R4,R5和R6均单独表示取代或未取代的C1-C20烷基,取代或未取代的C5-C12芳基,或者它们的组合,可选择地包含一个或多个选自羰基、羰氧基、磺酰胺基、醚、硫醚,取代或未取代的亚烷基基团,或者它们的组合的基团;Z4,Z5和Z6均单独表示选自羧基、羟基、硝基、氰基、C1到C5烷氧基、甲酰和磺酸的基团;g和h是独立的从0到4的整数;g+h为4或者更??;i和j是独立的从0到2的整数;并且i+j为2或者更??;k和l是独立的从0到3的整数;并且k+l为3或者更??;

    其中:R4,R5和R6均单独表示取代或未取代的C1-C20烷基,取代或未取代的C5-C12芳基,或者它们的组合,可选择地包含一个或多个选自羰基、羰氧基、磺酰胺基、醚、硫醚,取代或未取代的亚烷基基团,或者它们的组合的基团;Z4,Z5和Z6均单独表示选自羧基、羟基、硝基、氰基、C1到C5烷氧基、甲酰和磺酸的基团;g和h是独立的从0到4的整数;g+h为4或者更??;i和j是独立的从0到1的整数;并且i+j为1或者更??;k和l是独立的从0到4的整数;并且k+l为4或者更小。

    5.  如权利要求1的方法,其中芳香酸包括通式(V)的酸:

    其中:R7和R8均单独表示取代或未取代的C1-C20烷基,取代或未取代的C5-C14芳基,或者它们的组合,可选择地包含一个或多个选自羧基、羰基、羰氧基、磺酰胺基、醚、硫醚,取代或未取代的亚烷基基团,或者它们的组合的基团;Z7和Z8均单独表示选自羟基、硝基、氰基、C1到C5烷氧基、甲酰和磺酸的基团;m和n是独立的从0到5的整数;m+n为5或者更??;o和p是独立的从0到4的整数;并且o+p为4或者更小。

    6.  如权利要求1的方法,其中,芳香酸包括通式(VI)的酸:

    其中:X为O或S;R9单独表示取代或未取代的C1-C20烷基,取代或未取代的C5-C20芳基,或者它们的组合,可选择地包含一个或多个选自羰基、羰氧基、磺酰胺基、醚、硫醚,取代或未取代的亚烷基基团,或者它们的组合的基团;Z9单独表示选自羧基、羟基、硝基、氰基、C1到C5烷氧基、甲酰和磺酸的基团;q和r是独立的从0到3的整数;q+r为3或者更小。

    7.  如权利要求1到6中任何一个的方法,其中,修剪组合物的溶剂包括有机溶剂。

    8.  如权利要求1到6中任何一个的方法,其中,修剪组合物是水性溶液。

    9.  如权利要求1到7中任何一个的方法,其中,清洗剂包括水或水性碱性溶液。

    10.  如权利要求1到7中任何一个的方法,其中,清洗剂包括有机溶剂或溶剂混合物。

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    光刻 图案 修剪 方法
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