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    重庆时时彩娱乐平台澳门: 一种光电检测装置、方法和光刻胶涂覆设备.pdf

    关 键 词:
    一种 光电 检测 装置 方法 光刻 胶涂覆 设备
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    摘要
    申请专利号:

    CN201610675863.8

    申请日:

    2016.08.16

    公开号:

    CN106198397A

    公开日:

    2016.12.07

    当前法律状态:

    实审

    有效性:

    审中

    法律详情: 实质审查的生效IPC(主分类):G01N 21/17申请日:20160816|||公开
    IPC分类号: G01N21/17; G03F7/16 主分类号: G01N21/17
    申请人: 京东方科技集团股份有限公司; 合肥京东方光电科技有限公司
    发明人: 齐发; 徐海涛; 刘超; 钱娟娟; 彭亮亮; 欧阳欠; 江涛
    地址: 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
    优先权:
    专利代理机构: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
    PDF完整版下载: PDF下载
    法律状态
    申请(专利)号:

    CN201610675863.8

    授权公告号:

    |||

    法律状态公告日:

    2017.01.04|||2016.12.07

    法律状态类型:

    实质审查的生效|||公开

    摘要

    本发明提供一种光电检测装置、方法和光刻胶涂覆设备,涉及显示器制造技术领域,用于解决对shell?mura进行检测时费时费力且容易出现判断不准确的问题。该光电检测装置包括:光源,用于产生检测光束并将检测光束投射至透明基板;与光源相对固定且位于光源后方的接收处理器,用于接收由透明基板的上表面反射检测光束产生的第一反射光和由透明基板的下表面反射检测光束产生的第二反射光并获取测量光程差;其中,测量光程差为第一反射光的光程和第二反射光的光程的差值;接收处理器还用于判断测量光程差是否满足预设条件以及在测量光程差不符合预设条件时确认透明基板上具有水波纹。本发明用于shell?mura的检测。

    权利要求书

    1.一种光电检测装置,其特征在于,包括:
    光源,用于产生检测光束并将所述检测光束投射至透明基板;
    接收处理器,所述接收处理器与所述光源相对固定且沿所述光电检测装置对所述透明
    基板检测时的运动方向,所述接收处理器位于所述光源前方;所述接收处理器用于接收由
    所述透明基板的上表面反射所述检测光束产生的第一反射光和由所述透明基板的下表面
    反射所述检测光束产生的第二反射光并获取测量光程差;其中,所述测量光程差为所述第
    一反射光的光程和所述第二反射光的光程的差值;
    所述接收处理器还用于判断所述测量光程差是否满足预设条件以及在所述测量光程
    差不符合预设条件时确认所述透明基板上具有水波纹。
    2.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述接收处理器具体用于计算所述测量光
    程差与参考光程差的比值;判断所述测量光程差与参考光程差的比值是否在预设范围内;
    若否,则确认所述透明基板上具有水波纹;
    其中,所述水波纹包括凸起和凹陷。
    3.根据权利要求2所述的装置,其特征在于,所述接收处理器还用于根据所述测量光程
    差与参考光程差的比值获取所述水波纹的尺寸。
    4.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述光源包括:激光器、准直模组、扩束模
    组以及可调节狭缝;
    所述激光器用产生激光光束;
    所述准直模组用于对激光器产生的激光光束进行准直;
    所述扩束模组用于对经过所述准直模组准直后的激光光束进行扩束;
    所述可调节狭缝设置于所述扩束模组的出光口与所述透明基板之间,用于使经过所述
    扩束模组扩束后的激光光束在所述基板上形成线性光斑。
    5.根据权利要求4所述的装置,其特征在于,所述线性光斑与所述透明基板的一条边相
    互平行且长度相等。
    6.根据权利要求3所述的装置,其特征在于,所述接收处理器还用在所述测量光程差与
    参考光程差的比值为1时,确认所述透明基板正常;
    在所述测量光程差与参考光程差的比值大于1时,确认所述透明基板与所述光源相对
    的一侧具有凸起或者所述透明基板与所述接收处理器相对的一侧具有凹陷;
    在所述测量光程差与参考光程差的比值小于1时,确认所述透明基板与所述接收处理
    器相对的一侧具有凸起或者所述透明基板与所述光源相对的一侧具有凹陷。
    7.一种光电检测方法,其特征在于,包括:
    产生检测光束并将所述检测光束投射至透明基板;
    接收由所述透明基板的上表面反射所述检测光束产生的第一反射光和由所述透明基
    板的下表面反射所述光束产生的第二反射光;
    获取测量光程差;其中,所述测量光程差为所述第一反射光的光程和所述第二反射光
    的光程的差值;
    判断所述测量光程差是否满足预设条件;
    若否,确认所述透明基板上具有水波纹。
    8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述判断所述测量光程差是否满足预设条
    件,包括:
    计算所述测量光程差与参考光程差的比值;
    判断所述测量光程差与参考光程差的比值是否在预设范围内;
    所述确认所述透明基板上具有水波纹,包括:
    确认所述透明基板上具有凸起和/或凹陷。
    9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:
    根据所述测量光程差与参考光程差的比值获取所述水波纹的尺寸。
    10.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:
    在所述测量光程差与参考光程差的比值为1时,确认所述透明基板正常;
    在所述测量光程差与参考光程差的比值大于1时,确认所述透明基板与所述光源相对
    的一侧具有凸起或者所述透明基板与所述接收处理器相对的一侧具有凹陷;
    在所述测量光程差与参考光程差的比值小于1时,确认所述透明基板与所述接收处理
    器相对的一侧具有凸起或者所述透明基板与所述光源相对的一侧具有凹陷。
    11.一种光刻胶涂覆设备,其特征在于,包括:喷头和权利要求1-6任一项所述的光电检
    测装置;
    所述喷头与所述光电检测装置固定且所述沿所述喷头向基板上涂覆光刻胶时的运动
    方向,所述光电检测装置位于所述喷头前方。
    12.根据权利要求11所述的设备,其特征在于,所述喷头和所述光电检测装置间隔预设
    距离。
    13.根据权利要求11所述的设备,其特征在于,所述设备还包括控制器;
    所述控制器连接所述光电检测装置,用于在所述光电检测装置确认所述透明基板上具
    有水波纹时控制所述光刻胶涂覆装置停止运行。
    14.根据权利要求11所述的设备,其特征在于,所述设备还包括:报警装置;
    所述控制器连接所述光电检测装置,用于在所述光电检测装置确认所述透明基板上具
    有水波纹时进行报警。

    说明书

    一种光电检测装置、方法和光刻胶涂覆设备

    技术领域

    本发明涉及显示器制造技术领域,尤其涉及一种光电检测装置、方法和光刻胶涂
    覆设备。

    背景技术

    光刻胶涂覆是薄膜晶体管(英文全称:Thin Film Transistor,简称:TFT)光刻工
    艺中至关重要的一到工序。目前,TFT光刻工艺中光刻胶涂覆普遍使用的是狭缝涂布(英文
    名称:Slit Coating)方式。

    狭缝涂布通常包括:基板清洗、光刻胶涂布、减压干燥、加热烘烤等步骤。其在光刻
    胶涂覆过程中透明基板静止,依靠具有一狭缝的刮刀进行涂布,具有狭缝的刮刀通过控制
    到基板表面的距离来控制光刻胶膜层的均匀性。虽然在涂覆光刻胶之前会对基板进行清洗
    并真空吸附,但若光刻胶涂覆装置或透明基板背面上粘附有杂质颗粒,仍然因为杂质颗粒
    的产生的应力在基板表面形成水波纹(英文名称:shell mura),从而在光刻胶涂覆过程中
    造成膜层厚度不均匀的问题,进而造成后续工艺中的分辨率、线路宽度差异,引起直接反应
    在画面上的缺陷。现有技术中对shell mura监控是在完成整个光刻工艺后将基板搬运到检
    测设备上通过人眼进行检验,而人眼对shell mura进行检验人眼费时费力且容易出现判断
    不准确的问题,因此,如何准确检测出基板上的shell mura是本领域技术人员亟待解决的
    技术问题。

    发明内容

    本发明的实施例提供一种shell mura检测装置、方法和光刻胶涂覆设备,用于解
    决对shell mura进行检测时费时费力且容易出现判断不准确的问题。

    为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案:

    第一方面,提供一种光电检测装置,包括:

    光源,用于产生检测光束并将所述检测光束投射至透明基板;

    接收处理器,所述接收处理器与所述光源相对固定且沿所述光电检测装置对所述
    透明基板检测时的运动方向,所述接收处理器位于所述光源前方;所述接收处理器用于接
    收由所述透明基板的上表面反射所述检测光束产生的第一反射光和由所述透明基板的下
    表面反射所述检测光束产生的第二反射光并获取测量光程差;其中,所述测量光程差为所
    述第一反射光的光程和所述第二反射光的光程的差值;

    所述接收处理器还用于判断所述测量光程差是否满足预设条件以及在所述测量
    光程差不符合预设条件时确认所述透明基板上具有水波纹。

    可选的,所述接收处理器具体用于计算所述测量光程差与参考光程差的比值;判
    断所述测量光程差与参考光程差的比值是否在预设范围内;若否,则确认所述透明基板上
    具有水波纹;

    其中,所述水波纹包括凸起和凹陷。

    可选的,所述接收处理器还用于根据所述测量光程差与参考光程差的比值获取所
    述水波纹的尺寸。

    可选的,所述光源包括:激光器、准直模组、扩束模组以及可调节狭缝;

    所述激光器用产生激光光束;

    所述准直模组用于对激光器产生的激光光束进行准直;

    所述扩束模组用于对经过所述准直模组准直后的激光光束进行扩束;

    所述可调节狭缝设置于所述扩束模组的出光口与所述透明基板之间,用于使经过
    所述扩束模组扩束后的激光光束在所述基板上形成线性光斑。

    可选的,所述线性光斑与所述透明基板的至少一条边相互平行且长度相等。

    可选的,所述接收处理器还用在所述测量光程差与参考光程差的比值为1时,确认
    所述透明基板正常;

    在所述测量光程差与参考光程差的比值大于1时,确认所述透明基板与所述光源
    相对的一侧具有凸起或者所述透明基板与所述接收处理器相对的一侧具有凹陷;

    在所述测量光程差与参考光程差的比值小于1时,确认所述透明基板与所述接收
    处理器相对的一侧具有凸起或者所述透明基板与所述光源相对的一侧具有凹陷。

    第二方面,提供一种光电检测方法,包括:

    产生检测光束并将所述检测光束投射至透明基板;

    接收由所述透明基板的上表面反射所述检测光束产生的第一反射光和由所述透
    明基板的下表面反射所述光束产生的第二反射光;

    获取测量光程差;其中,所述测量光程差为所述第一反射光的光程和所述第二反
    射光的光程的差值;

    判断所述测量光程差是否满足预设条件;

    若否,确认所述透明基板上具有水波纹。

    可选的,所述判断所述测量光程差是否满足预设条件,包括:

    计算所述测量光程差与参考光程差的比值;

    判断所述测量光程差与参考光程差的比值是否在预设范围内;

    所述确认所述透明基板上具有水波纹,包括:

    确认所述透明基板上具有凸起和/或凹陷。

    可选的,所述方法还包括:

    用于根据所述测量光程差与参考光程差的比值获取所述水波纹的尺寸。

    可选的,所述方法还包括:

    在所述测量光程差与参考光程差的比值为1时,确认所述透明基板正常;

    在所述测量光程差与参考光程差的比值大于1时,确认所述透明基板与所述光源
    相对的一侧具有凸起或者所述透明基板与所述接收处理器相对的一侧具有凹陷;

    在所述测量光程差与参考光程差的比值小于1时,确认所述透明基板与所述接收
    处理器相对的一侧具有凸起或者所述透明基板与所述光源相对的一侧具有凹陷。

    第三方面,提供一种光刻胶涂覆设备,其特征在于,包括:喷头和第一方面任一项
    所述的光电检测装置;

    所述喷头与所述光电检测装置固定且所述沿所述喷头向基板上涂覆光刻胶时的
    运动方向,所述光电检测装置位于所述喷头前方。

    可选的,所述喷头和所述光电检测装置间隔预设距离。

    可选的,所述设备还包括控制器;

    所述控制器连接所述光电检测装置,用于在所述光电检测装置确认所述透明基板
    上具有水波纹时控制所述光刻胶涂覆装置停止运行。

    可选的,所述设备还包括:报警装置;

    所述控制器连接所述光电检测装置,用于在所述光电检测装置确认所述透明基板
    上具有水波纹时进行报警。

    本发明实施例提供的光电检测装置,包括:光源和接收处理器,其中光源可以产生
    检测光束并将检测光束投射至透明基板,接收处理器能够接收通过透明基板的上表面反射
    检测光束产生的第一反射光和透明基板的下表面反射检测光束产生的第二反射光并获取
    第一反射光的光程和第二反射光的光程的差值,最后通过判断第一反射光的光程和第二反
    射光的光程的差值是否符合预设条件确认透明基板上具有shell mura,即本发明实施例可
    以利用基板上表面和下表面生成反射光的光程差确认透明基板上是否具有shell mura,相
    比于现有技术,本发明实施例无需人工进行shell mura的检测,所以本发明实施例可以解
    决对shell mura进行检测时费力且容易出现判断不准确的问题。

    附图说明

    为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现
    有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本
    发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以
    根据这些附图获得其他的附图。

    图1为本发明实施例提供的光电检测装置的示意性结构图;

    图2为本发明实施例提供的光源的示意性结构图;

    图3为本发明实施例提供的线性光斑的示意性结构图;

    图4为本发明实施例提供的透明基板与光源相对的一侧具有凸起的示意图;

    图5为本发明实施例提供的透明基板与接收处理器相对的一侧具有凸起的示意
    图;

    图6为本发明实施例提供的光电检测方法的步骤流程图;

    图7为本发明实施例提供的光刻胶涂覆设备的示意性结构图。

    具体实施方式

    下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完
    整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例?;?br />本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他
    实施例,都属于本发明?;さ姆段?。

    需要说明的是,为了便于清楚描述本发明实施例的技术方案,在本发明的实施例
    中,采用了“第一”、“第二”等字样对功能和作用基本相同的相同项或相似项进行区分,本领
    域技术人员可以理解“第一”、“第二”等字样并不是在对数量和执行次序进行限定。

    本发明实施例提供一种光电检测装置,具体的,参照图1所示,该光电检测装置包
    括:光源11和接收处理器12。

    其中,光源11用于产生检测光束10并将检测光束10投射至透明基板100。

    具体的,本发明实施例中的光源具体可以为激光光源、红外光源或者其他可见光
    光源;对应的,检测光束具体可以为激光光束、红外光光束或者其他可见光光束。本发明实
    施例中对光源的类型以及光源的结构不作限定,以能够产生可以被透明基板上表面和下表
    面反射的检测光束为准。

    接收处理器12与光源11相对固定且沿光电检测装置对透明基板100检测时的运动
    方向,接收处理器12位于所述光源11前方;接收处理器12用于接收由透明基板100的上表面
    101反射检测光束10产生的第一反射光20和由透明基板的下表面102反射检测光束10产生
    的第二反射光30并获取测量光程差d;其中,测量光程差d为第一反射光20的光程和第二反
    射光30的光程的差值。

    示例性的,上述接收处理器具体可以由一个电荷耦合(英文全称:charge coupled
    device,简称:CCD)相机和一个处理器组成。其中,CCD相机分别接收第一反射光和第二反射
    光并记录第一反射光和第二反射光透射至CCD相机上的位置,处理器根据第一反射光和第
    二反射光透射至CCD相机上的位置计算第一反射光和第二反射光的光程差。当然,本领域技
    术人员也可以通过接收第一反射光和第二反射光的时间差或者接收第一反射光和第二反
    射光的角度差获取第一反射光和第二反射的光程差,本发明实施例中对此不对限定。

    接收处理器12还用于判断测量光程差d是否满足预设条件以及在测量光程差d不
    符合预设条件时确认透明基板100上具有水波纹(英文名称:shell mura)。

    具体的,当透明基板上不存在shell mura时,测量光程差d为恒定值,而当透明基
    板上具有shell mura时,测量光程差d的值会随着shell mura的不同而变化。因此,判断测
    量光程差d是否满足预设条件以及在测量光程差d不符合预设条件时确认透明基板100上具
    shell mura至少可以通过如下几种方式实现:

    1、判断测量光程差d的值是否恒定,当测量光程差出现波动时确认透明基板100上
    具shell mura。

    2、将实时测量光程差d与透明基板上没有shell mura时第一反射光和第二反射光
    的光程差作差,根据差值是否在一定范围内判断;当差值超出预设范围,则确认透明基板
    100上具shell mura。

    3、将实时测量光程差d与透明基板上没有shell mura时第一反射光和第二反射光
    的光程差作比,根据比值是否在一定范围内判断;当比值超出预设范围,则确认透明基板
    100上具shell mura。

    此外,当检测光束与透明基板垂直时,透明基板的上表面和下表面产生的反射光
    会汇合,进而对获取检测光程差造成影响。所以优先的,检测光束与透明基板不垂直。

    还需要说明的是,以上几种实现方式仅为本发明实施例中可能的实现方式,但本
    发明实施例并不限定于此,在上述实施例的基础上本领域技术人员还可以通过设定其他预
    设条件,并根据判断是否满足预设条件确认透明基板上是否具有shell mura,但这都属于
    本发明实施例的合理变通方案,因此均因属于本发明实施例的?;し段е?。

    本发明实施例提供的光电检测装置,包括:光源和接收处理器,其中光源可以产生
    检测光束并将检测光束投射至透明基板,接收处理器能够接收通过透明基板的上表面反射
    检测光束产生的第一反射光和透明基板的下表面反射检测光束产生的第二反射光并获取
    第一反射光的光程和第二反射光的光程的差值,最后通过判断第一反射光的光程和第二反
    射光的光程的差值是否符合预设条件确认透明基板上具有shell mura,即本发明实施例可
    以利用基板上表面和下表面生成反射光的光程差确认透明基板上是否具有shell mura,相
    比于现有技术,本发明实施例无需人工进行shell mura的检测,所以本发明实施例可以解
    决对shell mura进行检测时费力且容易出现判断不准确的问题。

    优选的,接收处理器12具体用于计算测量光程差d与参考光程差的比值;判断测量
    光程差d与参考光程差的比值是否在预设范围内;若否,则确认透明基板上具有水波纹(英
    文名称:shell mura)。

    其中,水波纹包括凸起和凹陷。即,水波纹可能为凸起和/或凹陷。

    其中,参考光程差为透明基板上没有shell mura时第一反射光和第二反射光的光
    程差。参考光程差的计算可以为:从透明基板的初始端,由光源发出检测光束,接收由透明
    基板上表面反射检测光束形成的第一反射光,并将第一反射光的光程记为λ1,接收由透明
    基板下表面反射检测光束形成的第二反射光,并将第二反射光的光程记为λ2。第一反射光
    与第二反射光的光程差λ0=λ2-λ1。再在透明基板上选取多个测量点进行测量,当第一反射
    光与第二反射光的光程差恒定值时,将恒定值作为参考光程差,若第一反射光与第二反射
    光的光程差产生变化,说明选取某个的检测点处具有shell mura,则选取出现最多的光程
    差值作为参考光程差。此外,参考光程差的计算可以为:获取检测光束与基板的夹角和透明
    基板的折射率,进而利用光的折射定律以及检测光束与基板的夹角和透明基板的折射率计
    算出参考光程差。

    将将参考光程差记为λ0,检测时的第一反射光的光程记为λ3,检测时的第二反射光
    的光程记为λ4,则测量光程差λ'0=λ4-λ3;测量光程差与参考光程差的比值△λ=λ'0/λ0。

    在实际应用中,光源产生的检测光束可能会有波动,进而影响测量的精度,上述实
    施例中通过判断判断测量光程差与参考光程差的比值是否在预设范围内,并通过将测量光
    程差与参考光程差的比值来判断可以消除检测光束波动对测量精度的影响,因此本发明实
    施例可以提高光电检测装置的在测量精度,进而光电检测装置的性能。

    在上述实施例的基础上接收处理器12还用于根据测量光程差与参考光程差的比
    值获取水波纹的尺寸。

    具体的,测量光程差与参考光程差的比值与1的差值的绝对值越大则说明shell
    mura的尺寸越大,测量光程差与参考光程差的比值与1的差值的绝对值越小则说明shell
    mura的尺寸越小。

    示例性的,参照图2所示,上述实施例中的光源11具体可以包括:激光器111、准直
    模组112、扩束模组113以及可调节狭缝114。

    激光器111用产生激光光束。

    准直模组112用于对激光器111产生的激光光束进行准直。

    激光器111产生的激光光束具有一定发散角度,因此需要通过准直模组112对激光
    器111产生的激光光束进行准直,从而避免激光光束的发散角度对测量精度的影响。

    扩束模组113用于对经过准直模组112准直后的激光光束进行扩束。

    经过准直模组112准直后的激光光束能量密度较大,照射至透明基板时会形成一
    个面积较小的圆形光斑,容易灼伤透明基板,因此在将激光束照射至透明基板前还应对激
    光光束进行扩束,增大激光光束形成的光斑面积并减小激光光束的能量密度,进而避免灼
    伤透明基板。

    此外,本发明实施例中不限定扩束模组对激光光束的扩束倍数,根据实际需求,本
    领技术人员可以通过调节扩束模组的光学透镜以及光学透明在扩束模组中的位置调节激
    光光束的扩束倍数。

    可调节狭缝114设置于扩束模组113的出光口与透明基板之间,用于使经过扩束模
    组扩束后的激光光束在基板上形成线性光斑。

    由扩束扩束模组113出光口射出的激光光束在直接照射至透明基板时会形成圆形
    光斑,若直接通过圆形光斑进行检测则是对透明基板进行逐点检测,可能存在检测遗漏且
    较费时间,上述实施例中在扩束模组113的出光口与透明基板之间设置可调节狭缝114,进
    而使扩束模组113扩束后的激光光束在基板上形成线性光斑,因此通过设置可调节狭缝114
    可以使光电检测装置对透明基板进行逐行检测,缩短了检测消耗时间且可以避免检测遗
    漏。

    此外,上述实施例中的狭缝为可调节狭缝,所以在使用中可以根据实际需求将线
    性光斑的长度调节为检测需要的长度。优选的,参照图3所示,线性光斑31与透明基板100的
    一条边32相互平行且长度相等。

    若线性光斑31与透明基板100的一条边32相互平行且长度相等,则通过使线性光
    斑31沿与其相互平行且长度相等的边在透明基板上移动检测,可以实现对整个透明基板是
    否具有shell mura进行检测。

    再进一步的,上述实施例中虽然可以对透明基板shell mura进行检测,但在确认
    透明基板上具有shell mura后工作人员还需要进一步人工确认shell mura在透明基板上
    的位置,而shell mura可能很难寻找,因此在上述实施例的基础上本发明实施例还进一步
    提供一种对shell mura为位置进行反馈的方案。具体的,该方案为:

    接收处理器12还用在测量光程差与参考光程差的比值为1时,确认透明基板正常。

    即,当Δλ=1时,说明此处测量光程差与参考光程差相同,透明基板没有shell
    mura。

    在测量光程差与参考光程差的比值大于1时,确认透明基板100与光源11相对的一
    侧具有凸起或者透明基板100与接收处理器12相对的一侧具有凹陷。

    参照图4所示,其中,d表示测量光程差,D表示参考光程差;当Δλ>1时,即测量光程
    差d大于参考光程差D时,以透明基板100与接收处理器12相对的一侧为参考平面,则100与
    光源11相对的一侧具有凸起,反之以及以透明基板100与光源11相对的一侧为参考平面,则
    透明基板100与接收处理器12相对的一侧具有凹陷。

    在测量光程差与参考光程差的比值小于1时,确认透明基板与接收处理器相对的
    一侧具有凸起或者所述透明基板100与光源11相对的一侧具有凹陷。

    参照图5所示,其中,d表示测量光程差,D表示参考光程差;当Δλ<1时,即测量光程
    差d小于参考光程差D时,说明透明基板与接收处理器相对的一侧具有凸起或者所述透明基
    板100与所述光源11相对的一侧具有凹陷。

    进一步的,本发明再一实施例提供一种光电检测方法,该光电检测方法可以作为
    上述任一实施例提供的光电检测装置的使用方法。具体的,参照图6所示,该方法包括如下
    步骤:

    S61、产生检测光束并将检测光束投射至透明基板。

    S62、接收由透明基板的上表面反射检测光束产生的第一反射光和由透明基板的
    下表面反射光束产生的第二反射光。

    S63、获取测量光程差。

    其中,测量光程差为第一反射光的光程和第二反射光的光程的差值;

    S64、判断测量光程差是否满足预设条件;

    在步骤S64中,若测量光程差不满足预设调节则执行步骤S65,若测量光程差满足
    预设条件,则继续进行检测,即返回步骤S61。

    S65、确认透明基板上具有水波纹。

    本发明实施例提供的光电检测方法,首先产生检测光束并将检测光束投射至透明
    基板;其次,接收通过透明基板的上表面反射检测光束产生的第一反射光和透明基板的下
    表面反射检测光束产生的第二反射光并获取第一反射光的光程和第二反射光的光程的差
    值,最后通过判断第一反射光的光程和第二反射光的光程的差值是否符合预设条件确认透
    明基板上具有shell mura,即本发明实施例可以利用基板上表面和下表面生成反射光的光
    程差确认透明基板上是否具有shell mura,相比于现有技术,本发明实施例无需人工进行
    shell mura的检测,所以本发明实施例可以解决对shell mura进行检测时费力且容易出现
    判断不准确的问题。

    可选的,上述步骤S64中判断测量光程差是否满足预设条件,具体步骤实现可以如
    下:

    S641、计算测量光程差与参考光程差的比值。

    S642、判断测量光程差与参考光程差的比值是否在预设范围内;

    步骤S65中确认透明基板上具有水波纹,包括:

    确认所述透明基板上具有凸起和/或凹陷。

    可选的,上述实施例提供的光电检测方法还包括:

    用于根据测量光程差与参考光程差的比值获取水波纹的尺寸。

    可选的,方法还包括:

    在测量光程差与参考光程差的比值为1时,确认透明基板正常;

    在测量光程差与参考光程差的比值大于1时,确认透明基板与光源相对的一侧具
    有凸起或者所述透明基板与所述接收处理器相对的一侧具有凹陷;

    在测量光程差与参考光程差的比值小于1时,确认透明基板与接收处理器相对的
    一侧具有凸起或者所述透明基板与所述光源相对的一侧具有凹陷。

    即通过本发明实施例提供的光电检测方法还能进一步对Shellmura的位置进行反
    馈。

    本发明再一实施例提供一种光刻胶涂覆设备,参照图7所示,该光刻胶涂覆设备包
    括:喷头71和上述任一实施例提供的光电检测装置72。

    其中,喷头71与光电检测装置72固定且沿喷头向基板100上涂覆光刻胶时的运动
    方向(图7中箭头所示方向),光电检测装置72位于喷头71前方。

    需要说明的是,上述实施例中喷头71与光电检测装置72固定时指喷头71与光电检
    测装置72相对位置不发生变化;喷头71与光电检测装置72可以直接通过刚性器件连接在一
    起,也可以不直接连接。例如:将喷头71与光电检测装置72均设置在运行导轨的特定位置
    上。

    现有技术中对shell mura检测是在完成整个光刻工艺后,若此时发现存在shell
    mura,则需要将之前完成的光刻工序返工重做。本发明实施例中将光电检测装置72设置于
    喷头71前方,所以在喷头71向透明基板100喷涂光刻胶之前即可对透明基板进行检测,所以
    可以在检测到shell mura时修复后在进行构图工艺,因此本发明实施例可以避免检测到
    shell mura时对光刻工序返工重做。

    示例性的,上述光刻胶涂覆设备可以为狭缝涂布方式(英文名称:slit coating)
    的光刻胶涂覆设备。

    优选的,喷头71和光电检测装置72间隔预设距离。

    其中,使喷头71和光电检测装置72间隔预设距离,可以为光电检测装置72检测到
    透明基板上具有shell mura预留一定时间。本领域技术人员可以根据光刻胶涂覆设备运行
    速度、停止时的反应时间等因素确定预设距离的具体长度。

    可选的,设备还包括控制器;

    控制器连接光电检测装置,用于在光电检测装置确认透明基板上具有水波纹时控
    制光刻胶涂覆装置停止运行。

    通过控制器可以及时停止刻胶涂覆装置涂覆设备的运行,进而避免喷头向透明基
    板上具有shell mura的位置涂覆光刻胶。

    可选的,设备还包括:报警装置;

    控制器连接光电检测装置,用于在光电检测装置确认透明基板上具有水波纹时进
    行报警。

    示例性的,报警装置可以为蜂鸣器和/或发光二级光,对应的报警具体可以为发出
    声音信号和/或发出灯光信号。

    以上所述,仅为本发明的具体实施方式,但本发明的?;し段Р⒉痪窒抻诖?,任何
    熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到的变化或替换,都应
    涵盖在本发明的?;し段е?。因此,本发明的?;し段вσ匀ɡ蟮谋;し段?。

    关于本文
    本文标题:一种光电检测装置、方法和光刻胶涂覆设备.pdf
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