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    重庆时时彩后二胆码: 一种CAFSUB2/SUB光学基底表面和亚表面损伤探测方法.pdf

    摘要
    申请专利号:

    重庆时时彩单双窍门 www.4mum.com.cn CN201611047902.6

    申请日:

    2016.11.24

    公开号:

    CN106404746A

    公开日:

    2017.02.15

    当前法律状态:

    实审

    有效性:

    审中

    法律详情: 实质审查的生效IPC(主分类):G01N 21/65申请日:20161124|||公开
    IPC分类号: G01N21/65 主分类号: G01N21/65
    申请人: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
    发明人: 邓文渊; 金春水; 靳京城; 李春
    地址: 130033 吉林省长春市经济技术开发区东南湖大路3888号
    优先权:
    专利代理机构: 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316 代理人: 赵勍毅
    PDF完整版下载: PDF下载
    法律状态
    申请(专利)号:

    CN201611047902.6

    授权公告号:

    |||

    法律状态公告日:

    2017.03.15|||2017.02.15

    法律状态类型:

    实质审查的生效|||公开

    摘要

    本发明公开了一种CaF2光学基底表面和亚表面损伤探测方法。本发明的方法包括步骤:S1,对被测试CaF2光学基底样品表面进行处理;S2,采用激光共聚焦Raman光谱仪进行显微Raman光谱测试,对该测试区域表面和亚表面的损伤变化情况进行判断分析;S3,对所测CaF2光学元件表面的所有有效区域进行表面Mapping扫描测试,并对测试结果进行综合分析,判断所测CaF2光学元件表面和亚表面的损伤情况。本发明提供的CaF2光学基底表面和亚表面损伤探测方法能提高探测的灵敏度和准确性。

    权利要求书

    1.一种CaF2光学基底表面和亚表面损伤探测方法,其特征在于,包括步骤:
    S1,对被测试CaF2光学基底样品表面进行处理;
    S2,采用激光共聚焦拉曼光谱仪进行显微拉曼光谱测试,对该测试区域表面和亚表面
    的损伤变化情况进行判断分析;
    S3,对所测CaF2光学元件表面的所有有效区域进行表面Mapping扫描测试,并对测试结
    果进行综合分析,判断所测CaF2光学元件表面和亚表面的损伤情况。
    2.如权利要求1所述的CaF2光学基底表面和亚表面损伤探测方法,其特征在于,还包括
    步骤:
    S4,将被测样品表面进行清洁处理,使样品表面恢复到测试前的洁净状态。
    3.如权利要求1所述的CaF2光学基底表面和亚表面损伤探测方法,其特征在于,所述步
    骤S1,对被测试CaF2光学基底样品表面进行处理具体为:
    将纳米金属溶胶滴在被测CaF2光学基底样品表面并进行低速旋涂,然后将其静置使水
    溶剂挥发干净。
    4.如权利要求3所述的CaF2光学基底表面和亚表面损伤探测方法,其特征在于,所述纳
    米金属溶胶的颗粒直径为10nm。
    5.如权利要求1所述的CaF2光学基底表面和亚表面损伤探测方法,其特征在于,所述步
    骤S2,采用激光共聚焦拉曼光谱仪进行显微拉曼光谱测试,对该测试区域表面和亚表面的
    损伤变化情况进行判断分析具体为:采用激光共聚焦拉曼光谱仪,选择拉曼测试模式及测
    试参数,进行显微拉曼光谱测试,根据所述拉曼光谱中CaF2的特征拉曼峰的强弱变化及其
    它杂质组分结构的拉曼光谱峰的强弱变化,对该测试区域表面和亚表面的损伤变化情况进
    行判断,并具体分析损伤机理。
    6.如权利要求5所述的CaF2光学基底表面和亚表面损伤探测方法,其特征在于,所述测
    试参数包括激发激光波长,显微物镜的放大倍率,共聚焦针孔大小,光栅的刻线,拉曼光谱
    的测试范围,测试的积分时间和平均次数。
    7.如权利要求6所述的CaF2光学基底表面和亚表面损伤探测方法,其特征在于,所述激
    发激光波长为785nm,所述显微物镜的放大倍率为10x-40x,所述共聚焦针孔大小为200μm,
    所述光栅的刻线为600I/mm,拉曼光谱的测试范围为100cm-1-1500cm-1之间,所述测试的积
    分时间为5s,所述测试的平均次数为2次。
    8.如权利要求2所述的CaF2光学基底表面和亚表面损伤探测方法,其特征在于,所述步
    骤S4,将被测样品表面进行清洁处理,使样品表面恢复到测试前的洁净状态,具体为:
    将被测样品表面采用去离子水进行兆声清洗,同时将所述去离子水进行加热,然后重
    复上述步骤3次以上后更换去离子水。
    9.如权利要求8所述的CaF2光学基底表面和亚表面损伤探测方法,其特征在于,所述对
    所述去离子水进行加热的温度为60度-80度。
    10.如权利要求8所述的CaF2光学基底表面和亚表面损伤探测方法,其特征在于,所述对
    所述去离子水进行兆声清洗的时间为10分钟。

    关 键 词:
    一种 CAFSUB2 SUB 光学 基底 表面 损伤 探测 方法
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