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    买重庆时时彩计划: 一种清除聚二甲基硅烷裂解反应残留物的方法.pdf

    摘要
    申请专利号:

    重庆时时彩单双窍门 www.4mum.com.cn CN201610018273.8

    申请日:

    2016.01.12

    公开号:

    CN105601936A

    公开日:

    2016.05.25

    当前法律状态:

    授权

    有效性:

    有权

    法律详情: 授权|||实质审查的生效IPC(主分类):C08G 77/60申请日:20160112|||公开
    IPC分类号: C08G77/60 主分类号: C08G77/60
    申请人: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
    发明人: 莫高明; 苗玉龙; 钟希强; 何流; 陈??? 裴学良; 杨建行
    地址: 315201 浙江省宁波市镇海区庄市大道519号
    优先权:
    专利代理机构: 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 代理人: 单英
    PDF完整版下载: PDF下载
    法律状态
    申请(专利)号:

    CN201610018273.8

    授权公告号:

    ||||||

    法律状态公告日:

    2018.05.04|||2016.06.22|||2016.05.25

    法律状态类型:

    授权|||实质审查的生效|||公开

    摘要

    本发明提供了一种清除聚二甲基硅烷(PDMS)裂解反应残留物的方法,该方法首先用可溶聚碳硅烷(PCS)的有机溶剂对反应容器进行清洗,再用氧化性酸对反应容器进行清洗,最后用去离子水或蒸馏水清洗反应容器后烘干。通过上述方法可快速、彻底清除聚二甲基硅烷(PDMS)裂解反应后的残留物,在保养反应设备的同时,减少了残留物对后续反应进程的影响,提高了反应产物性能的稳定性和可靠性。

    权利要求书

    1.一种清除聚二甲基硅烷裂解反应残留物的方法,其特征是:在聚二甲基
    硅烷裂解反应后的反应容器内首先加入可溶聚碳硅烷的有机溶剂进行清洗,然后
    加入氧化性酸进行清洗,最后用去离子水或蒸馏水清洗后烘干。
    2.根据权利要求1所述的清除聚二甲基硅烷裂解反应残留物的方法,其特
    征是:所述的聚二甲基硅烷裂解反应残留物包括聚二甲基硅烷在高温常压条件下
    裂解制备聚硅碳硅烷或液态聚碳硅烷的残留物,以及聚二甲基硅烷在高温高压条
    件下裂解制备聚碳硅烷的残留物。
    3.根据权利要求1所述的清除聚二甲基硅烷裂解反应残留物的方法,其特
    征是:所述的可溶聚碳硅烷的有机溶剂包括苯、甲苯、二甲苯、四氢呋喃、环己
    烷、正庚烷、四氯化碳、氯仿中的一种或几种混合物。
    4.根据权利要求1所述的清除聚二甲基硅烷裂解反应残留物的方法,其特
    征是:所述的氧化性酸包括浓硫酸、浓硝酸、高氯酸中的一种或几种混合物。
    5.根据权利要求4所述的清除聚二甲基硅烷裂解反应残留物的方法,其特
    征是:所述浓硫酸的质量百分数为90-98%,浓硝酸的质量百分数为50-70%,高
    氯酸的质量百分数为60-80%。
    6.根据权利要求1至5中任一权利要求所述的清除聚二甲基硅烷裂解反应
    残留物的方法,其特征是:包括以下步骤:
    步骤1:在聚二甲基硅烷裂解反应后的反应容器内加入可溶聚碳硅烷的有机
    溶剂,加热反应容器,使容器内温度达到10-100℃,在保证容器内液体流动且充
    分接触残留物的条件下,保持0.1-100小时,然后移出反应容器内的液体;
    步骤2:向反应容器内加入氧化性酸,加热反应容器,使容器内温度达到
    30-120℃,在保证容器内液体流动且充分接触残留物的条件下,保持0.1-100小
    时,然后将移出反应容器内的液体;
    步骤3:向反应容器内加入蒸馏水或去离子水清洗反应容器,清洗后移出反
    应容器内的液体,然后烘干反应容器。
    7.根据权利要求6所述的清除聚二甲基硅烷裂解反应残留物的方法,其特
    征是:所述步骤1和步骤2中通过搅拌、振荡、超声处理中的一种或者几种保证
    反应容器内液体流动。
    8.根据权利要求6所述的清除聚二甲基硅烷裂解反应残留物的方法,其特
    征是:所述步骤1中,反应容器内的温度为50-80℃;
    作为优选,所述步骤1中,保持时间为1-10小时。
    9.根据权利要求6所述的清除聚二甲基硅烷裂解反应残留物的方法,其特
    征是:所述步骤2中,反应容器内的温度为50-80℃;
    作为优选,所述步骤2中,保持时间为5-10小时。
    10.根据权利要求6所述的清除聚二甲基硅烷裂解反应残留物的方法,其特
    征是:所述步骤3中,清洗时间为1-30分钟;
    作为优选,所述步骤3中,烘干温度为10-100℃。

    关 键 词:
    一种 清除 甲基 硅烷 裂解 反应 残留物 方法
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