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    重庆时时彩后三012路: 触摸屏面板及其制造方法.pdf

    关 键 词:
    触摸屏 面板 及其 制造 方法
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    摘要
    申请专利号:

    CN201010595920.4

    申请日:

    2010.12.16

    公开号:

    CN102163095A

    公开日:

    2011.08.24

    当前法律状态:

    授权

    有效性:

    有权

    法律详情: 授权|||实质审查的生效IPC(主分类):G06F 3/041申请日:20101216|||专利申请权的转移IPC(主分类):G06F 3/041变更事项:申请人变更前权利人:三星移动显示器株式会社变更后权利人:三星显示有限公司变更事项:地址变更前权利人:韩国京畿道龙仁市变更后权利人:韩国京畿道龙仁市登记生效日:20121106|||公开
    IPC分类号: G06F3/041 主分类号: G06F3/041
    申请人: 三星移动显示器株式会社
    发明人: 全雨植
    地址: 韩国京畿道龙仁市
    优先权: 2010.02.22 KR 10-2010-0015702
    专利代理机构: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 郭鸿禧;李娜娜
    PDF完整版下载: PDF下载
    法律状态
    申请(专利)号:

    CN201010595920.4

    授权公告号:

    |||||||||

    法律状态公告日:

    2015.04.01|||2012.12.19|||2012.12.05|||2011.08.24

    法律状态类型:

    授权|||实质审查的生效|||专利申请权、专利权的转移|||公开

    摘要

    本发明公开了一种触摸屏面板及其制造方法,在触摸屏面板的制造方法中,在透明基底的同一表面上顺序地形成透明电极层和绝缘层。利用半色调掩模将透明电极层和绝缘层共图案化,从而形成沿着第一方向连接的多个第一感测图案、具有在第一感测图案之间的分开的图案的多个第二感测图案及位于第一感测图案和第二感测图案上以暴露第二感测图案的部分区域的绝缘层。在形成有第一感测图案、第二感测图案和绝缘层的透明基底上形成导电层。将导电层图案化,从而形成允许通过第二感测图案的暴露区域沿着第二方向连接的第二连接图案。

    权利要求书

    1.一种触摸屏面板的制造方法,所述方法包括以下步骤:在透明基底的同一表面上顺序地形成透明电极层和绝缘层;利用半色调掩模将透明电极层和绝缘层共图案化,从而形成沿着第一方向连接的多个第一感测图案、具有在所述多个第一感测图案之间的分开的图案的多个第二感测图案及位于第一感测图案和第二感测图案上以暴露第二感测图案的部分区域的绝缘层;在形成有第一感测图案、第二感测图案和绝缘层的透明基底上形成导电层;将导电层图案化,从而形成允许通过第二感测图案的暴露区域沿着第二方向连接的第二连接图案。2.根据权利要求1所述的制造方法,其中,利用半色调掩模将透明电极层和绝缘层共图案化的步骤包括:利用所述半色调掩模在绝缘层上形成具有第一高度和低于第一高度的第二高度的光致抗蚀剂;通过蚀刻工艺去除形成在除了光致抗蚀剂的下部之外的其他区域的透明电极层和绝缘层;通过蚀刻工艺和灰化工艺去除具有第二高度的光致抗蚀剂和位于光致抗蚀剂下方的绝缘层;通过灰化工艺去除残留在绝缘层上的光致抗蚀剂。3.根据权利要求2所述的制造方法,其中,通过蚀刻工艺去除形成在除了光致抗蚀剂的下部之外的其他区域的透明电极层和绝缘层的步骤包括:通过干蚀刻工艺去除绝缘层,然后通过湿蚀刻工艺去除透明电极层,其中,对透明电极层进行过蚀刻,直到透明电极层的侧面比绝缘层的侧面更靠内。4.根据权利要求1所述的制造方法,其中,在利用半色调掩模将透明电极层和绝缘层共图案化的步骤中,允许第一感测图案沿着第一方向连接的第一连接图案与第一感测图案一体地形成。5.根据权利要求1所述的制造方法,其中,在将导电层图案化的步骤中,将第一感测图案和第二感测图案连接到外部驱动电路的位置检测线与第二连接图案同时形成。6.一种触摸屏面板,所述触摸屏面板包括:透明基底;第一感测图案,通过将第一感测图案图案化使第一感测图案通过第一连接图案沿着第一方向连接而形成在透明基底的表面上;第二感测图案,被图案化为具有分开的图案并设置在第一感测图案之间;绝缘层,形成在第一感测图案、第二感测图案和第一连接图案上,绝缘层暴露第二感测图案的部分区域;第二连接图案,形成在绝缘层上,第二连接图案允许第二感测图案通过第二感测图案的暴露区域沿着第二方向连接,其中,对第一连接图案进行过蚀刻,使得第一连接图案的侧面比绝缘层的侧面更靠内。7.根据权利要求6所述的触摸屏面板,其中,第二连接图案通过与第二感测图案直接接触允许第二感测图案沿着第二方向连接。8.根据权利要求6所述的触摸屏面板,所述触摸屏面板还包括将第一感测图案和第二感测图案连接到外部驱动电路的位置检测线,其中,位置检测线由与第二连接图案的材料相同的材料形成。9.一种具有透明基底的触摸屏面板,所述触摸屏面板包括:第一感测图案,设置在透明基底上并通过第一连接图案沿着第一方向连接;第二感测图案,设置在透明基底上并通过第二连接图案沿着第二方向连接;绝缘层,设置在第一感测图案和第二感测图案上,并覆盖第一感测图案同时暴露第二感测图案的部分区域;其中,第二连接图案通过第二感测图案的暴露区域连接第二感测图案。10.根据权利要求9所述的触摸屏面板,其中,第一连接图案设置在绝缘层的下方,第二连接图案设置在绝缘层的上方。11.根据权利要求9所述的触摸屏面板,其中,绝缘层的设置在第一感测图案上的部分的侧面延伸穿过第一感测图案的对应的侧面。12.根据权利要求9所述的触摸屏面板,其中,第二连接图案通过与第二感测图案直接接触而允许第二感测图案沿着第二方向连接。13.根据权利要求9所述的触摸屏面板,所述触摸屏面板还包括将第一感测图案和第二感测图案连接到外部驱动电路的位置检测线,其中,位置检测线由与第二连接图案的材料相同的材料形成。14.根据权利要求9所述的触摸屏面板,其中,第一方向垂直于第二方向。15.根据权利要求9所述的触摸屏面板,其中,第一感测图案与第一连接图案一体地形成。16.根据权利要求10所述的触摸屏面板,其中,绝缘层设置在第一连接图案和第二连接图案之间。17.根据权利要求9所述的触摸屏面板,其中,第一感测图案形成为与第二感测图案分开。18.根据权利要求9所述的触摸屏面板,其中,第一感测图案和第二感测图案均形成为菱形形状,其中,第一感测图案的角部沿着第一方向彼此相邻,第二感测图案的角部沿着第二方向彼此相邻,其中,沿着第一方向延伸的第一感测图案的列与沿着第二方向延伸的第二感测图案的行交叉。

    说明书

    触摸屏面板及其制造方法

    本申请要求于2010年2月22日在韩国知识产权局提交的第10-2010-0015702号韩国专利申请的权益,该申请的公开通过引用包含于此。

    技术领域

    本发明的各方面涉及一种设置到图像显示装置等的触摸屏面板及其制造方法。

    背景技术

    触摸屏面板是允许利用用户的手或物体通过选择显示在诸如图像显示装置的屏幕上的指令内容来输入用户的指令的输入装置。

    对此,触摸屏面板形成在图像显示装置的正面上,以将接触位置转换成电信号。这里,用户的手或物体在接触位置与触摸屏面板直接接触。因此,在接触位置选择的指令内容作为输入信号而输入到图像显示装置。

    由于这种触摸屏面板可以代替单独的、连接到图像显示装置的输入装置(例如,键盘或鼠标)来使用,所以触摸屏面板的使用增加。触摸屏面板分为电阻式覆盖(resistive?overlay)触摸屏面板、光敏式触摸屏面板、电容式触摸屏面板等。在这些触摸屏面板中,当用户的手或物体与电容式触摸屏面板接触时,该触摸屏面板通过感测形成在导电感测图案与相邻的感测图案或地电极等之间的电容变化而将接触位置转换为电信号。

    对此,电容式触摸屏面板包括形成为沿着第一方向连接的第一感测图案和形成为沿着第二方向连接的第二感测图案,从而可以检测到用户的手或物体的接触位置的坐标。第一感测图案和第二感测图案由相同的材料并且在同一层中形成,从而触摸屏面板可以具有更为均匀的灵敏性。

    然而,在这种情况下,通过不同的工艺形成沿第一方向连接第一感测图案的第一连接图案和沿第二方向连接第二感测图案的第二连接图案,以防止第一连接图案和第二连接图案短路。例如,在将第一感测图案和第二感测图案图案化的工艺中同时形成与第一感测图案一体的第一连接图案,而在另一工艺(例如,形成位置检测线的工艺)中形成连接第二感测图案的第二连接图案。

    然而,在将第一感测图案、第二感测图案和第一连接图案图案化的工艺、将第二连接图案和位置检测线图案化的工艺、将使第一连接图案和第二连接图案绝缘的绝缘层图案化的工艺以及在其他相关的工艺中需要执行掩模工艺。因此,触摸屏面板的制造工艺复杂,因此,降低了触摸屏面板的制造效率。

    发明内容

    本发明的各方面提供了一种触摸屏面板及其制造方法,可以通过减少掩模工艺的数量来简化工艺并可确保稳定性。

    根据本发明的一方面,提供了一种触摸屏面板的制造方法,所述方法包括以下步骤:在透明基底的同一表面上顺序地形成透明电极层和绝缘层;利用半色调掩模将透明电极层和绝缘层共图案化,从而形成沿着第一方向连接的多个第一感测图案、具有在所述多个第一感测图案之间的分开的图案的多个第二感测图案及位于第一感测图案和第二感测图案上以暴露第二感测图案的部分区域的绝缘层;在形成有第一感测图案、第二感测图案和绝缘层的透明基底上形成导电层;将导电层图案化,从而形成允许通过第二感测图案的暴露区域沿着第二方向连接的第二连接图案。

    根据本发明的另一方面,利用半色调掩模将透明电极层和绝缘层共图案化的步骤可以包括:利用所述半色调掩模在绝缘层上形成具有第一高度和低于第一高度的第二高度的光致抗蚀剂;通过蚀刻工艺去除形成在除了光致抗蚀剂的下部之外的其他区域的透明电极层和绝缘层;通过蚀刻工艺和灰化工艺去除具有第二高度的光致抗蚀剂和位于光致抗蚀剂下方的绝缘层;通过灰化工艺去除残留在绝缘层上的光致抗蚀剂。

    根据本发明的另一方面,通过蚀刻工艺去除形成在除了光致抗蚀剂的下部之外的其他区域的透明电极层和绝缘层的步骤可以包括:通过干蚀刻工艺去除绝缘层,然后通过湿蚀刻工艺去除透明电极层,其中,对透明电极层进行过蚀刻,直到透明电极层的侧面比绝缘层的侧面更靠内。

    根据本发明的另一方面,在利用半色调掩模将透明电极层和绝缘层共图案化的步骤中,允许第一感测图案沿着第一方向连接的第一连接图案可以与第一感测图案一体地形成。

    根据本发明的另一方面,在将导电层图案化的步骤中,将第一感测图案和第二感测图案连接到外部驱动电路的位置检测线可以与第二连接图案同时形成。

    根据本发明的一方面,提供了一种触摸屏面板,所述触摸屏面板包括:透明基底;第一感测图案,通过将第一感测图案图案化使第一感测图案通过第一连接图案沿着第一方向连接而形成在透明基底的表面上;第二感测图案,被图案化为具有分开的图案并设置在第一感测图案之间;绝缘层,形成在第一感测图案、第二感测图案和第一连接图案上,绝缘层暴露第二感测图案的部分区域;第二连接图案,形成在绝缘层上,第二连接图案允许第二感测图案通过第二感测图案的暴露区域沿着第二方向连接,其中,对第一连接图案进行过蚀刻,使得第一连接图案的侧面比绝缘层的侧面更靠内。

    根据本发明的另一方面,第二连接图案可以通过与第二感测图案直接接触允许第二感测图案沿着第二方向连接。

    根据本发明的另一方面,所述触摸屏面板还可以包括将第一感测图案和第二感测图案连接到外部驱动电路的位置检测线。位置检测线可以由与第二连接图案的材料相同的材料形成。

    根据本发明的一方面,提供了一种具有透明基底的触摸屏面板,所述触摸屏面板包括:第一感测图案,设置在透明基底上并通过第一连接图案沿着第一方向连接;第二感测图案,设置在透明基底上并通过第二连接图案沿着第二方向连接;绝缘层,设置在第一感测图案和第二感测图案上,并覆盖第一感测图案同时暴露第二感测图案的部分区域,其中,第二连接图案通过第二感测图案的暴露区域连接第二感测图案。

    如上所述,根据本发明的各方面,利用半色调掩模将透明电极层和绝缘层共图案化,从而形成第一感测图案、第二感测图案和绝缘层。因此,使掩模工艺的数量最少化,因此简化了制造工艺。此外,对透明电极层进行过蚀刻,从而允许第一感测图案沿着第一方向连接的每个第一连接图案的侧面比绝缘层的侧面更靠内。因此,能够提高触摸屏面板的电学稳定性。

    本发明的另外的方面和/或优点将部分地在下面的描述中进行阐述,部分地通过描述将是清楚的,或者可以通过实践本发明而明了。

    附图说明

    通过下面结合附图对实施例进行的描述,本发明的这些和/或其他方面及特点将会变得清楚且更易于理解,附图中:

    图1是示意性地示出了根据本发明实施例的触摸屏面板的俯视图;

    图2是示出了图1中示出的感测图案和连接图案的主要部分的俯视图;

    图3是图1示出的触摸屏面板的主要部分的俯视图;

    图4A对图4G是顺序示出了图3示出的触摸屏面板的制造方法的剖视图。

    具体实施方式

    现在将详细参照本发明的当前实施例,附图中示出了本发明的示例,其中,附图中相同的标号始终表示相同的元件。下面通过参照附图来描述实施例,以解释本发明。

    应该理解的是,当在此描述第一元件被称作设置或形成“在”第二元件“上”或“中”或者“连接到”第二元件时,第一元件可以直接接触第二元件,或者可以通过位于第一元件和第二元件之间的一个或多个其他元件而与第二元件分开。相反,当元件被称作“直接”设置或形成“在”另一元件“上”或者“直接连接到”另一元件时,不存在中间元件。

    图1是示意性地示出了根据本发明实施例的触摸屏面板的俯视图。图2是示出了图1中示出的感测图案和连接图案的主要部分的俯视图。参照图1和图2,根据本发明本实施例的触摸屏面板包括透明基底10、形成在透明基底10上的第一感测图案12a和第二感测图案12b。触摸屏面板还包括位置检测线15,位置检测线15通过焊盘部分20将第一感测图案12a和第二感测图案12b连接到外部驱动电路(未示出)。

    利用诸如氧化铟锡(ITO)的透明电极材料将第一感测图案12a形成为沿第一方向(例如,列方向)连接。因此,第一感测图案12a的列线连接到对应的位置检测线15。这里,在图案化工艺中将第一感测图案12a图案化为沿着第一方向连接。例如,第一感测图案12a被图案化为通过如图2所示的一体形成的第一连接图案12a1沿着第一方向连接。然而,本发明的各方向不限于此,第一感测图案12a可以通过在不同的工艺(例如,形成位置检测线15的工艺)中单独形成的第一连接图案12a1沿着第一方向连接。

    与第一感测图案12a一样,第二感测图案12b利用透明电极材料形成。第二感测图案12b与第一感测图案12a设置在同一层中,并且第二感测图案12b被图案化为具有在第一感测图案12a之间分开的图案。如果第一感测图案12a和第二感测图案12b位于同一层中,则触摸屏面板可以具有更均匀的灵敏度。

    第二感测图案12b通过如图2所示的第二连接图案12b1沿着不同于第一方向的第二方向(例如,沿着行方向)连接。因此,第二感测图案12b的行线连接到对应的检测线15。第二连接图案12b1在与形成第二感测图案12b的工艺不同的工艺中形成,使得第二感测图案12b沿着第二方向连接。例如,第二连接图案12b1在形成位置检测线15的工艺中由与位置检测线15的材料相同的材料形成,使得第二感测图案12b沿着第二方向连接。

    第一感测图案12a和第二感测图案12b均可形成为菱形形状。具体地讲,第一感测图案12a的角部沿着第一方向彼此相邻,第二感测图案12b的角部沿着第二方向彼此相邻,其中,沿着第一方向延伸的第一感测图案12a的列与沿着第二方向延伸的第二感测图案12b的行交叉。

    位置检测线15通过焊盘部分20将第一感测图案12a和第二感测图案12b连接到诸如位置检测电路的外部驱动电路(未示出)。位置检测线15设置在触摸屏面板的轮廓线外部,同时避免接触显示图像的触摸屏有效区域(touch?panel?active?area)。位置检测线15具有可以用来形成位置检测线的宽范围的材料,因此位置检测线15除了可以由用来形成第一感测图案12a和第二感测图案12b的透明电极材料形成之外,还可以由诸如钼(Mo)、银(Ag)、钛(Ti)、铜(Cu)、铝(Al)或钼/铝/钼(Mo/Al/Mo)的低电阻材料形成。然而,本发明的各方向不限于此,可以使用其他适合的材料来形成位置检测线15、第一感测图案12a和第二感测图案12b。

    前述的触摸屏面板是电容式触摸屏面板。如果诸如用户的手或触摸笔的接触物体接触触摸屏面板,则基于接触位置的电容的改变从感测图案12a和12b经由位置检测线15和焊盘部分20传递到外部驱动电路。然后,电容的改变通过X输入处理电路(未示出)和Y输入处理电路(未示出)及相关的元件转换为电信号,从而检测到接触位置。

    前述的触摸屏面板形成在将要附于图案显示装置等的正面的、独立的基底上,或者与图案显示装置的显示面板一体地实现。例如,触摸屏面板可以在有机发光显示面板或液晶显示面板的上基底的顶表面上与有机发光显示面板或液晶显示面板一体地实现。这样,触摸屏面板与显示面板一体地实现,从而提供了薄的图像显示装置。然而,本发明的各方向不限于此,前述的触摸屏面板可以附于其他适合的装置或者在其他适合的装置中实现。

    图3是图1示出的触摸屏面板的主要部分的俯视图。将结合图1和图2来描述图3的触摸屏面板的结构。触摸屏面板分为在触摸屏面板中部形成的触摸屏有效区域和形成在触摸屏面板外围的互连区域102。为了便于示出,在图3中,触摸屏有效区域101示出的是沿着图2中的I-I’线截取的截面。

    第一感测图案12a、第二感测图案12b、第一连接图案12a1、绝缘层13和第二连接图案12b1形成在触摸屏有效区域101中。第一感测图案12a、第二感测图案12b和第一连接图案12a1形成在透明基底10的同一表面上。绝缘层13形成在第一感测图案12a、第二感测图案12b和第一连接图案12a1上,同时暴露第二感测图案12b的第一区域。第二连接图案12b1形成在绝缘层13上,从而通过第二感测图案12b的暴露区域沿着第二方向连接第二感测图案12b。位置检测线15形成在互连区域102中。

    根据本实施例,触摸屏有效区域101是透明的,从而从触摸屏面板下方的显示面板(未示出)或其他类似的发光装置可透射光。第一感测图案12a、第二感测图案12b、第一连接图案12a1和绝缘层13由具有预定透射率或高于预定透射率的透射率的透明材料形成。根据本发明的各方面,术语“透明度”包括100%的透明度,也包括具有小于100%的透明度同时具有高的光学透射率的透明度。

    因此,第一感测图案12a、第二感测图案12b和第一连接图案12a1由诸如ITO的透明电极材料形成。绝缘层13由诸如氧化硅(SiO2)的透明绝缘材料形成。然而,本发明的各方面不限于此,第一感测图案12a、第二感测图案12b、第一连接图案12a1和绝缘层13可以由其他适合的材料形成。

    与位置检测线15一样,第二连接图案12b1由低电阻材料或其他适合的材料形成。调整第二连接图案12b1的线宽度或长度,从而能够防止第二连接图案12b1被用户的眼睛识别出。虽然在图3的剖视图中未示出,但是第一感测图案12a被图案化为通过第一连接图案12a1沿着第一方向连接。因此,第一感测图案12a与第一连接图案12a1一体地形成,如图1和图2所示。

    绝缘层13形成在第一感测图案12a、第二感测图案12b和第一连接图案12a1上。具体地讲,绝缘层13在第一连接图案12a和第二连接图案12b1的交叉部分处置于第一连接图案12a和第二连接图案12b之间。因此,形成绝缘层13以防止第一连接图案12a1和第二连接图案12b1的短路。

    根据本发明的各方面,为了有效地防止第一连接图案12a1和第二连接图案12b1的短路,对第一连接图案12a1进行过蚀刻,使得第一连接图案12a1位于绝缘层13内部,从而提高电学稳定性。即,在绝缘层13与每个第一连接图案12a1叠置的区域处,绝缘层13的底部形成得比每个第一连接图案12a1的顶部宽。

    绝缘层13暴露第二感测图案12b的第一区域。因此,第二连接图案12b1允许第二感测图案12b通过第二感测图案12b的暴露区域沿着第二方向连接。第二连接图案12b1通过第二感测图案12b的暴露区域与第二感测图案12b直接接触。因此,第二感测图案12b沿着第二方向连接。在形成位置检测线15的工艺中利用与位置检测线15的材料相同的材料同时形成第二连接图案12b1。

    然而,根据本发明的各方面,利用一个半色调掩模将第一感测图案12a、第二感测图案12b、第一连接图案12a1和绝缘层13图案化。因此,减少了掩模工艺的数量,并且简化了制造工艺。将在随后参照图4A至图4G对此进行描述。

    根据本发明的各方面,绝缘层13形成在第一感测图案12a、第二感测图案12b和第一连接图案12a的除了具有第二连接图案12b1的一些区域之外剩余的整个区域上。在图3中,为了便于示出,与感测图案12a和12b的尺寸相比,夸大了连接图案12a1和12b1的尺寸。然而,如图1所示,连接图案12a1和12b1实际形成为具有它们难以被识别的程度的尺寸。

    即,根据本发明的各方面,触摸屏有效区域101的大部分表面被绝缘层13覆盖。因此,虽然在其上形成有第二连接图案12b1的透明基底10上没有额外地形成单独的绝缘层,但是可避免由表面划痕等引起的问题。

    由于第二连接图案12b1位于第一感测图案12a、第二感测图案12b和第一连接图案12a1的上方,所以可避免由阶梯差(step?difference)引起的问题。因此第二连接图案12b1的厚度的设计是相对自由的。

    图4A对图4G是顺序示出了图3示出的触摸屏面板的制造方法的剖视图。将参照图4A至图4G来描述根据本发明实施例的触摸屏面板的制造方法。首先,准备透明基底10,在透明基底10的同一表面上顺序地生长透明电极层12’和绝缘层13。

    透明基底10是显示面板的上基底、用于触摸面板的单独的基底或窗口基底等。透明电极层12’用来形成第一感测图案12a、第二感测图案12b和第一连接图案12a1。通过在透明基底10上沉积诸如ITO的透明材料来形成透明电极层12’。因此,通过在透明电极层12’上沉积诸如氧化硅(SiO2)的透明绝缘材料来形成绝缘层13(图4A)。然而,本发明的各方面不限于此,可以使用其他适合的材料来形成透明电极层12’和绝缘层13。

    随后,利用半色调掩模将透明电极层12’和绝缘层13共图案化(co-pattern),从而形成第一感测图案12a、第二感测图案12b、第一连接图案12a1和绝缘层13。更具体地讲,参照图4B,利用一个半色调掩模(未示出)在绝缘层上形成具有不同高度(即,第一高度H1和小于第一高度H1的第二高度H2)的光致抗蚀剂PR。

    通过蚀刻工艺去除形成在除了光致抗蚀剂PR的下部之外的其他区域的透明电极层12’和绝缘层13。例如,通过干蚀刻工艺去除形成在除了光致抗蚀剂PR的下部之外的其他区域的透明电极层12’和绝缘层13。然后,还通过执行湿蚀刻工艺去除在被绝缘层13暴露的区域处形成的透明电极层12’。因此,形成了第一感测图案12a、第二感测图案12b和第一连接图案12a1。

    这里,虽然未在该图的剖视图中示出,但是将第一感测图案12a和第一连接图案12a1一体地图案化,从而第一感测图案12a通过第一连接图案12a1沿着第一方向连接。另外,将第二感测图案12b形成为具有在相应的第一感测图案12a之间的分开的图案。仅在湿蚀刻工艺中蚀刻透明电极层12’??裳≡竦?,在绝缘层13的干蚀刻工艺中部分地蚀刻透明电极层12’,并且在湿蚀刻工艺中另外地蚀刻透明电极层12’。

    当透明电极层12’由ITO形成时,诸如包含草酸的蚀刻剂的酸性蚀刻剂用作在透明电极层12’的湿蚀刻工艺中的用于透明电极材料的蚀刻剂。然而,本发明的各方面不限于此,可以使用其他适合的蚀刻剂。此时,如图4C所示,对透明电极层12’进行过蚀刻,直到透明电极层12’的侧面比绝缘层13的侧面更靠内,从而确保触摸屏面板的电学稳定性。

    然后,通过随后的灰化工艺去除具有第二高度H2的光致抗蚀剂PR。此时,去除光致抗蚀剂PR的具有第一高度H1的上部,从而光致抗蚀剂PR的高度下降?;一ひ帐侵冈诟呶缕障氯忌蘸腿コ庵驴故醇?例如,光致抗蚀剂PR)的工艺。以促进纯基团反应(不包括离子作用)的化学反应的形式来执行灰化工艺?;谎灾?,通过光致抗蚀剂PR中的碳键与氧基团的反应形成二氧化碳来去除光致抗蚀剂PR。然而,本发明的各方面不限于此,可以通过其他适合的工艺来去除光致抗蚀剂PR。

    如果去除了具有第二高度H2的光致抗蚀剂PR,则位于被去除的光致抗蚀剂PR下方的绝缘层13被暴露。因此,通过干蚀刻工艺或利用缓冲氧化蚀刻剂(BOE,buffered?oxide?etchant)的湿蚀刻工艺来去除绝缘层13的暴露部分。因此,暴露了第二感测图案12b的第一区域。通过灰化工艺和蚀刻工艺去除具有第二高度H2的光致抗蚀剂PR和位于光致抗蚀剂PR下方的绝缘层13。因此,暴露了第二感测图案12b的第一区域,如图4D所示。

    通过灰化工艺去除残留在绝缘层13上的光致抗蚀剂PR,从而完成第一感测图案12a、第二感测图案12b、第一连接图案12a1和绝缘层13的图案化工艺,如图4E所示。随后,通过溅射工艺等在形成有第一感测图案12a、第二感测图案12b、第一连接图案12a1和绝缘层13的透明基底10的整个表面上形成导电层14,如图4F所示。

    随后,利用单独的掩模(未示出)将导电层14图案化,从而形成允许通过第二感测图案12b的暴露区域沿着第二方向连接第二感测图案12b的第二连接图案12b1。

    在将导电层14图案化的工艺中,将第一感测图案12a和第二感测图案12b连接到外部驱动电路的位置检测线15由与第二连接图案12b1的材料相同的材料同时形成,如图4G所示。然而,本发明的各方面不限于此,位置检测线15可以在其他时间由其他适合的材料形成。

    根据如上所述的触摸屏面板的制造方法,利用一个半色调掩模将透明电极层12’和绝缘层13共图案化,从而形成第一感测图案12a、第二感测图案12b和绝缘层13。也就是说,在利用一个半色调掩模将第一感测图案12a、第二感测图案12b和绝缘层13图案化的过程中执行掩模工艺。此外,在利用单独的掩模将第二连接图案12b1和位置检测线15图案化的过程中执行掩模工艺。因此,使掩模工艺的数量最少化,因此简化了制造工艺。

    虽然已经示出并描述了本发明的一些实施例,但是本领域的技术人员应该理解,在不脱离本发明的原理和精神的情况下,可以对实施例做出改变,本发明的范围限定在权利要求书及其等同物内。

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