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    半导体 光刻 工艺 进行 对准 方法
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    摘要
    申请专利号:

    CN201010153908.8

    申请日:

    2010.04.13

    公开号:

    CN102221792A

    公开日:

    2011.10.19

    当前法律状态:

    驳回

    有效性:

    无权

    法律详情: 发明专利申请公布后的驳回IPC(主分类):G03F 9/00申请公布日:20111019|||专利申请权的转移IPC(主分类):G03F 9/00变更事项:申请人变更前权利人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司变更后权利人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司变更事项:地址变更前权利人:201203 上海市浦东新区张江路18号变更后权利人:201203 上海市浦东新区张江路18号变更事项:申请人变更后权利人:中芯国际集成电路制造(北京)有限公司登记生效日:20121119|||实质审查的生效IPC(主分类):G03F 9/00申请日:20100413|||公开
    IPC分类号: G03F9/00 主分类号: G03F9/00
    申请人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
    发明人: 马骏
    地址: 201203 上海市浦东新区张江路18号
    优先权:
    专利代理机构: 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人: 牛峥;王丽琴
    PDF完整版下载: PDF下载
    法律状态
    申请(专利)号:

    CN201010153908.8

    授权公告号:

    |||||||||

    法律状态公告日:

    2014.05.21|||2012.12.19|||2011.11.30|||2011.10.19

    法律状态类型:

    发明专利申请公布后的驳回|||专利申请权、专利权的转移|||实质审查的生效|||公开

    摘要

    本发明提供了一种在半导体光刻工艺中进行的对准方法,应用在半导体器件有源区AA及AA形成之前的离子注入层的光刻工艺时的对准过程,光刻机将具有AA或AA形成之前的离子注入层图形的光掩膜上的对准标记与制作在晶圆边缘的对准标记进行对准后光刻,其中在晶圆边缘的对准标记的制作步骤为:采用激光标记的方式在晶圆表面制作晶圆标识的同时,采用激光标记的方式在晶圆边缘表面刻出对准标记。本发明提供的方法省略制作零层对准标记的一系列光刻、蚀刻和清洗等工序,在不复杂、无额外制作费用及不耗时的情况下得到对准标记,用于AA及AA之间的离子注入层的光刻工艺过程中的对准,使得制作半导体器件的周期变短、费用减少且简单。

    关于本文
    本文标题:在半导体光刻工艺中进行的对准方法.pdf
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