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    重庆时时彩杀号必赢: 用于EB或EUV平版印刷的化学放大正性抗蚀剂组合物和图案化方法.pdf

    摘要
    申请专利号:

    重庆时时彩单双窍门 www.4mum.com.cn CN201110121500.7

    申请日:

    2011.02.16

    公开号:

    CN102243439A

    公开日:

    2011.11.16

    当前法律状态:

    授权

    有效性:

    有权

    法律详情: 授权|||实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/039申请日:20110216|||公开
    IPC分类号: G03F7/039; G03F7/00 主分类号: G03F7/039
    申请人: 信越化学工业株式会社
    发明人: 增永惠一; 渡边聪; 田中启顺; 土门大将
    地址: 日本东京
    优先权: 2010.02.16 JP 2010-031030
    专利代理机构: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 任宗华
    PDF完整版下载: PDF下载
    法律状态
    申请(专利)号:

    CN201110121500.7

    授权公告号:

    ||||||

    法律状态公告日:

    2015.12.16|||2013.03.27|||2011.11.16

    法律状态类型:

    授权|||实质审查的生效|||公开

    摘要

    提供一种用于EB或EUV平版印刷的化学放大正性抗蚀剂组合物,其包括(A)聚合物或聚合物共混物,其中聚合物或聚合物共混物的薄膜不可溶于碱性显影剂,但是在酸的作用下变为可溶于其中,(B)酸产生剂,(C)碱性化合物,和(D)溶剂。碱性化合物(C)为包括带有侧链的重复单元的聚合物,并且构成作为组分(A)的一种聚合物或多种聚合物的一部分或全部,所述侧链具有仲胺或叔胺结构作为碱性活性位点。

    权利要求书

    1.一种用于EB或EUV平版印刷的化学放大正性抗蚀剂组合物,包括
    (A)聚合物或聚合物共混物,至少一种聚合物具有被酸去?;さ谋;せ?,
    其使得聚合物或聚合物共混物的薄膜不可溶于碱性显影剂,但是在酸的作用下
    变为可溶于其中,
    (B)能够产生酸的酸产生剂,
    (C)用于抑制酸作用的碱性化合物,和
    (D)溶剂,其中
    作为组分(C)的碱性化合物为包括带有侧链的重复单元的聚合物,并且构成
    作为组分(A)的至少一种聚合物,所述侧链具有仲胺或叔胺结构作为碱性活性位
    点,和
    该组合物可以任选进一步包括以每摩尔作为组分(B)的酸产生剂计,用量为
    至多1/20摩尔的分子量为至多1,000的化合物作为不同于聚合物形式的碱性化
    合物的组分(C)。
    2.权利要求1的抗蚀剂组合物,其中所述带有具有仲胺或叔胺结构的侧链
    的重复单元为在侧链连接的主链碳和胺结构中的氮原子之间具有不包括在环结
    构中的至少两个连续原子的原子键的重复单元。
    3.权利要求2的抗蚀剂组合物,其中作为组分(C)的碱性化合物为包括通
    式(1)和(2)的重复单元的聚合物:

    其中A为单键或可以被醚氧原子分隔的C1-C10亚烷基,
    R1各自独立地为氢或甲基,
    R2各自独立地为C1-C6烷基,
    B1、B2和B3各自独立地为单键,或为选自可以包含醚氧原子的直链或支化
    C1-C10亚烷基、可以被醚氧原子分隔的二价C5-C10脂环基、可以被醚氧原子分隔
    的二价C6-C14芳基,以及包括上述至少一种组合的键基,
    Z1和Z2各自独立地为单键、-CO-O-或-O-CO-,条件是当B1、B2和B3包含醚
    氧原子时,Z1和Z2不形成-O-O-结构,以及当Z2为-CO-O-或-O-CO-时,B3不为单
    键,
    R3和R4各自独立地为氢或可以包含杂原子的一价C1-C10烃基,条件是R3和
    R4不同时为氢,R3和R4可以与其连接的氮原子一起键合成环,当它们成环时,R3
    和R4为可以包含杂原子的二价C2-C12烃基,
    B3可以与R3或R4以及与其连接的氮原子一起键合成环,在这种情况下,含
    氮环为5至7-元环,其排除孤对氮原子赋予含氮环芳香性的结构环,以及含氮
    环不是芳族环,
    a为0至4的整数,b为1至5的正整数,p和q各自独立地为0或1,t
    为0至2的整数,条件是当q=0时,与主链碳键合的B1中的原子为醚氧原子或
    形成芳族环的碳原子,以及当q=0和Z1和Z2为单键时,B1、B2和B3的一个或更
    多个应包含至少两个来源于亚烷基或芳基的连续碳原子。
    4.权利要求3的抗蚀剂组合物,其中作为组分(C)的碱性化合物为除了式
    (1)和(2)的重复单元之外,包括通式(3)的重复单元的聚合物,

    其中C为单键或可以包含醚氧原子的C1-C10亚烷基,R1为氢或甲基,R5各自
    独立地为C1-C6烷基,当d为1时,X为酸不稳定基团,当d为2或3时,X为
    氢或酸不稳定基团,条件是至少一个X为酸不稳定基团,a为0至4的整数,c
    为0或1,d为1至3的整数,s为0或1,w为0至2的整数。
    5.一种图案形成方法,包括以下步骤:
    将权利要求1的正性抗蚀剂组合物施涂在可加工基材上形成抗蚀膜,
    使该薄膜以图案化方式曝光于EB或EUV辐射,

    用碱性显影剂使已曝光的薄膜显影,形成抗蚀剂图案。
    6.权利要求5的方法,其中可加工基材为光掩模板坯。
    7.权利要求6的方法,其中光掩模板坯在最外层表面包括铬化合物。

    关 键 词:
    用于 EB EUV 平版印刷 化学 放大 正性抗蚀剂 组合 图案 方法
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