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    重庆时时彩的中奖秘诀: 一种通过正负光刻胶复合显影制备微纳米流体系统的方法.pdf

    摘要
    申请专利号:

    重庆时时彩单双窍门 www.4mum.com.cn CN201110099968.0

    申请日:

    2011.04.20

    公开号:

    CN102243435A

    公开日:

    2011.11.16

    当前法律状态:

    终止

    有效性:

    无权

    法律详情: 未缴年费专利权终止IPC(主分类):G03F 7/00申请日:20110420授权公告日:20120822终止日期:20150420|||授权|||实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/00申请日:20110420|||公开
    IPC分类号: G03F7/00; G03F7/30 主分类号: G03F7/00
    申请人: 合肥工业大学
    发明人: 王旭迪; 金建; 郑正龙; 李鑫; 汤启升
    地址: 230009 安徽省合肥市屯溪路193号
    优先权:
    专利代理机构: 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司 34101 代理人: 何梅生
    PDF完整版下载: PDF下载
    法律状态
    申请(专利)号:

    CN201110099968.0

    授权公告号:

    |||102243435B||||||

    法律状态公告日:

    2016.06.15|||2012.08.22|||2012.02.08|||2011.11.16

    法律状态类型:

    专利权的终止|||授权|||实质审查的生效|||公开

    摘要

    本发明公开了一种通过正负光刻胶复合显影制备微纳米流体系统的方法,是首先以玻璃片为基底,制备具有光栅图形的正光刻胶层,接着在正光刻胶层的表面镀上一层SiO2薄膜,随后在所述SiO2薄膜的表面旋涂一层负光刻胶,完全曝光并显影后得到微纳米流体系统。本发明方法新颖,制作简单,通道的均匀性好,不易出现堵塞,成功率高,同时该方法操作灵活,制造成本低,不需要昂贵的实验器材,利于大面积生产。

    权利要求书

    1.一种通过正负光刻胶复合显影制备微纳米流体系统的方法,其特征在于:首先以玻璃
    片为基底,制备具有光栅图形的正光刻胶层,接着在正光刻胶层的表面镀上一层SiO2薄膜,
    随后在所述SiO2薄膜的表面旋涂一层负光刻胶,完全曝光并显影后得到微纳米流体系统。
    2.根据权利要求1所述的通过正负光刻胶复合显影制备微纳米流体系统的方法,其特征
    是按如下步骤操作:
    a、将玻璃片预处理,在处理后的玻璃片表面旋涂一层厚度为1.3-1.8μm的AZ1350正光
    刻胶,于90℃烘烤20分钟,接着在紫外曝光机下曝光2.5分钟,然后在质量百分浓度0.5%
    的NaOH溶液中显影,将模板上的光栅图形复刻到AZ1350胶层上,再在紫外曝光机下曝光
    3分钟,得到具有光栅图形的AZ1350正光刻胶层;
    所述预处理是将玻璃片依次用去离子水和丙酮清洗后于130℃烘烤20分钟,然后进行氧
    气等离子体处理;
    b、将步骤a得到的AZ1350正光刻胶层置于磁控溅射镀膜机中镀上一层SiO2薄膜,得到
    覆有SiO2薄膜的AZ1350光栅胶层;
    c、在覆有SiO2薄膜的AZ1350光栅胶层上旋涂2-3μm的SU-8?2002负光刻胶,然后于
    90℃烘烤20分钟,自然冷却后在曝光机下曝光4分钟,再于90℃烘烤15分钟,自然冷却后
    得到复合正负光刻胶的双层胶层;
    d、在所述双层胶层的表面垂直于光栅方向划出细缝,然后在质量百分浓度0.5%的NaOH
    溶液浸泡1-2小时,取出后用去离子水清洗2-3次再用异丙醇溶液淋洗,待异丙醇自然蒸发
    干净即得微纳米流体系统。
    3.根据权利要求2所述的通过正负光刻胶复合显影制备微纳米流体系统的方法,其特征
    在于:步骤a中所述氧气等离子体处理的真空度为25Pa,功率为60W,轰击时间为90秒。
    4.根据权利要求2所述的通过正负光刻胶复合显影制备微纳米流体系统的方法,其特征
    在于:步骤a中为了获得1.5微米左右的AZ1350胶层,AZ1350需要与环戊酮按体积比为1∶2
    混合稀释,旋涂转速为2000转/分钟,旋涂时间为30s。
    5.根据权利要求2所述的通过正负光刻胶复合显影制备微纳米流体系统的方法,其特征
    在于:步骤b中镀膜时设置离子能量450eV,束流70mA,中和电流84mA,镀膜时间5分钟,
    镀膜速率10纳米/分钟。
    6.根据权利要求2所述的通过正负光刻胶复合显影制备微纳米流体系统的方法,其特征
    在于:所述紫外曝光机曝光光源的波长为365nm,曝光剂量为200mJ/cm2。

    关 键 词:
    一种 通过 正负 光刻 复合 显影 制备 纳米 流体 系统 方法
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