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    优博重庆时时彩平台: 显示器件及其制造方法.pdf

    摘要
    申请专利号:

    重庆时时彩单双窍门 www.4mum.com.cn CN201210402235.4

    申请日:

    2012.10.19

    公开号:

    CN103365007A

    公开日:

    2013.10.23

    当前法律状态:

    授权

    有效性:

    有权

    法律详情: 授权|||实质审查的生效IPC(主分类):G02F 1/1362申请日:20121019|||公开
    IPC分类号: G02F1/1362; G02F1/1368; G02F1/1343; H01L27/12 主分类号: G02F1/1362
    申请人: 乐金显示有限公司
    发明人: 禹允焕; 申熙善; 金景妿
    地址: 韩国首尔
    优先权: 2012.03.26 KR 10-2012-0030543
    专利代理机构: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国
    PDF完整版下载: PDF下载
    法律状态
    申请(专利)号:

    CN201210402235.4

    授权公告号:

    ||||||

    法律状态公告日:

    2016.02.24|||2013.11.20|||2013.10.23

    法律状态类型:

    授权|||实质审查的生效|||公开

    摘要

    本发明涉及一种显示器件以及其制造方法。所述显示器件包括薄膜晶体管、第一?;げ?、第二?;げ?、像素电极、连接线、第三?;げ阋约肮驳缂?。

    权利要求书

    权利要求书
    1.  一种显示器件,包括:
    包括栅极电极、源极电极以及漏极电极的薄膜晶体管;
    在所述薄膜晶体管上形成的第一?;げ?;
    在所述第一?;げ闵闲纬傻牡诙;げ?;
    在所述第二?;げ闵闲纬傻南袼氐缂?,所述像素电极通过暴露出所述漏极电极的第一接触孔连接至所述漏极电极;
    在所述第二?;げ闵嫌胨鲈醇缂杂Φ奈恢么π纬傻牡谝涣酉?,所述第一连接线以及所述像素电极由相同的材料形成;
    在所述第一连接线上形成的第二连接线;
    在所述第二连接线、所述像素电极以及所述第二?;げ闵闲纬傻牡谌;げ?;以及
    在所述第三?;げ闵闲纬傻墓驳缂?,所述公共电极通过暴露出所述第二连接线的第二接触孔连接至所述第二连接线。

    2.  如权利要求1所述的显示器件,还包括在所述像素电极上的金属衬垫,其中所述金属衬垫由与所述第二连接线相同的材料形成。

    3.  如权利要求1所述的显示器件,其中所述第一?;げ愫退龅谌;げ闶嵌刍?。

    4.  如权利要求1所述的显示器件,其中所述第二?;げ惆ü獗┧?。

    5.  如权利要求1所述的显示器件,其中所述第一?;げ愫退龅谌;げ闶嵌刍?,并且所述第二?;げ惆ü獗┧?。

    6.  如权利要求1所述的显示器件,其中
    所述公共电极包括狭缝;并且
    所述公共电极和所述像素电极配置为与所述狭缝一起产生边缘场。

    7.  如权利要求1所述的显示器件,其中所述薄膜晶体管还包括栅极绝缘层、有源层以及蚀刻阻挡层,其中所述有源层设置在所述栅极电极上。

    8.  如权利要求1所述的显示器件,其中所述薄膜晶体管还包括栅极绝缘层、有源层以及蚀刻阻挡层,其中所述栅极电极设置在所述有源层上。

    9.  如权利要求1所述的显示器件,其中所述显示器件具有集成触摸屏,在触摸驱动模式时,所述公共电极是触摸电极,而在显示驱动模式时,所述公共电极是显示驱动电极。

    10.  一种形成显示器件的方法,包括:
    形成包括栅极电极、源极电极以及漏极电极的薄膜晶体管;
    在所述薄膜晶体管上形成第一?;げ愫偷诙;げ?;
    图案化所述第一?;げ愫退龅诙;げ阋孕纬杀┞冻鏊雎┘缂牡谝唤哟タ?;
    在所述第一接触孔和所述第二?;げ闵闲纬赏该鞯嫉绮?;
    图案化所述透明导电层以形成像素电极和第一连接线;
    在所述像素电极、所述第一连接线和所述第二?;げ闵闲纬山鹗舨?;
    图案化所述金属层以在所述第一连接线上形成第二连接线;
    在所述第二连接线、所述像素电极和所述第二?;げ闵闲纬傻谌;げ?;
    图案化所述第三?;げ阋孕纬杀┞冻鏊龅诙酉叩牡诙哟タ?;
    在所述第二接触孔和所述第三?;げ闵闲纬晒驳缂?;以及
    图案化所述公共电极层以形成公共电极。

    11.  一种显示器件,包括:
    包括栅极电极、源极电极以及漏极电极的薄膜晶体管;
    在所述薄膜晶体管上形成的第一?;げ?;
    在所述第一?;げ闵闲纬傻牡诙;げ?;
    在所述第二?;げ闵闲纬傻南袼氐缂?,所述像素电极通过暴露出所述漏 极电极的第一接触孔连接至所述漏极电极;
    在所述像素电极上的金属衬垫;
    在所述第二?;げ闵嫌胨鲈醇缂杂Φ奈恢么π纬傻牧酉?,所述连接线和金属衬垫由相同的材料形成;
    在所述连接线、所述像素电极以及所述第二?;げ闵闲纬傻牡谌;げ?;以及
    在所述第三?;げ闵闲纬傻墓驳缂?,所述公共电极通过暴露出所述连接线的第二接触孔连接至所述连接线。

    12.  如权利要求11所述的显示器件,其中所述第一?;げ愫退龅谌;げ闶嵌刍?。

    13.  如权利要求11所述的显示器件,其中所述第二?;げ惆ü獗┧?。

    14.  如权利要求11所述的显示器件,其中所述第一?;げ愫退龅谌;げ闶嵌刍?,并且所述第二?;げ惆ü獗┧?。

    15.  如权利要求11所述的显示器件,其中
    所述公共电极包括狭缝;并且
    所述公共电极和所述像素电极配置为与所述狭缝一起产生边缘场。

    16.  如权利要求11所述的显示器件,其中所述薄膜晶体管还包括栅极绝缘层、有源层以及蚀刻阻挡层,其中所述有源层设置在所述栅极电极上。

    17.  如权利要求11所述的显示器件,其中所述薄膜晶体管还包括栅极绝缘层、有源层以及蚀刻阻挡层,其中所述栅极电极设置在所述有源层上。

    18.  如权利要求11所述的显示器件,其中所述显示器件具有集成触摸屏,在触摸驱动模式时,所述公共电极是触摸电极,在显示驱动模式时,所述公共电极是显示驱动电极。

    19.  一种形成显示器件的方法,包括:
    形成包括栅极电极、源极电极以及漏极电极的薄膜晶体管;
    在所述薄膜晶体管上形成第一?;げ愫偷诙;げ?;
    图案化所述第一?;げ愫退龅诙;げ阋孕纬杀┞冻鏊雎┘缂牡谝唤哟タ?;
    在所述第一接触孔和所述第二?;げ闵闲纬赏该鞯嫉绮?;
    图案化所述透明导电层以形成像素电极;
    在所述像素电极和所述第二?;げ闵闲纬山鹗舨?;
    图案化所述金属层以在所述第二?;げ闵闲纬闪酉咭约霸谒鱿袼氐缂闲纬山鹗舫牡?;
    在所述连接线、所述像素电极、所述金属衬垫和所述第二?;げ闵闲纬傻谌;げ?;
    图案化所述第三?;げ阋孕纬杀┞冻鏊隽酉叩牡诙哟タ?;
    在所述第二接触孔和所述第三?;げ闵闲纬晒驳缂?;以及
    图案化所述公共电极层以形成公共电极。

    说明书

    说明书显示器件及其制造方法
    技术领域
    本发明涉及一种显示器件,更具体地,涉及一种具有集成触摸屏的显示器件。
    背景技术
    参照图1-3描述现有技术的显示器件。
    图1是现有技术的显示器件的一个像素区的截面图。图2和图3是图1的B部的变化的视图。如图1所示的现有技术的显示器件包括基板100、作为开关元件的薄膜晶体管、第一?;げ?34、第二?;げ?40、像素电极151、连接线161、第三?;げ?70以及公共电极181。
    薄膜晶体管形成在单元像素区中,并且包括栅极电极110、栅极绝缘层120、有源层130、源极电极131、漏极电极132以及蚀刻阻挡层133。
    第一?;げ?34和第二?;げ?40形成在薄膜晶体管上,特别地,第二?;げ?40由光丙烯酸形成。
    像素电极151用作用于显示驱动的电极并通过在第二?;げ?40中形成的接触孔141连接至薄膜晶体管的漏极电极132。
    连接线161,例如由金属形成的连接线161在第二?;げ?40上。例如,连接线161将显示驱动信号或触摸驱动信号施加至公共电极181。第三?;げ?70形成在连接线161、像素电极151以及第二?;げ?40上。
    公共电极181和像素电极151形成在不同的层。在具有集成触摸屏的显示器件的显示驱动模式中,公共电极181与像素电极151一起产生电场并且因此用作用于显示驱动的电极。在具有集成触摸屏的显示器件的触摸驱动模式中,公共电极181用作用于感测触摸的触摸电极。
    另一方面,如图1的A部所示,当金属连接线161沉积在光丙烯酸第二?;げ?40上时,由于金属与光丙烯酸之间的粘性失效,在沉积之后的后续工序中会发生填充问题,因此,将有可能损坏连接线161。
    即使连接线161并未因为填充问题而被损坏,但当在粘性表面的边界部发生填充问题时,蚀刻工序中的蚀刻溶液和剥离工序中的剥离溶液会污染粘性表面的边界部。为此,需花费额外的费用和时间以去除污染。
    为了解决填充问题,可以在第二?;げ?40和连接线161之间形成缓冲钝化层。然而,在此情况中,这种额外的工序花费费用和时间。
    另外,如图2和3所示,在形成用于连接像素电极151与漏极电极132的接触孔141时,当接触孔141的阶高很大或者在第一?;げ?34中发生诸如倒置锥形这样的错误时,在连接至漏极电极132的连接部中会发生像素电极151的断开,并且断开部被蚀刻溶液和剥离溶液暴露,导致漏极电极132的损坏。
    以下描述现有技术的显示器件的一些局限。
    首先,由于光丙烯酸第二?;げ阌虢鹗袅酉咧涞恼承允?,会发生填充问题,导致损坏连接线和/或污染粘性表面的边界部。
    第二,如果在光丙烯酸与金属之间形成用于解决填充问题的缓冲钝化层,那么额外的工序花费费用和时间。
    第三,当用于连接像素电极与漏极电极的接触孔的阶高很大时或者当在第一?;げ阒蟹⑸怪米缎问?,像素电极会断开,并且在断开部的漏极电极受到蚀刻溶液和剥离溶液的损坏。
    发明内容
    本发明涉及提供一种显示器件以及一种用于制造该显示器件的方法,所述显示器件基本上避免了由于现有技术的局限和缺点导致的一个或多个问题。
    本发明的一方面涉及提供一种显示器件,所述显示器件能够解决填充问题并且防止各个像素电极的断开和各个漏极电极的损坏。
    本发明的一些实施方式的另外的优点和特征将部分地在随后的描述中进行说明,而部分地通过本领域的普通技术人员研习下文后,变得显而易见,或者可通过实践本发明而知晓。本发明的目的和其它优点可通过在说明书及其权利要求书和附图中具体指出的结构来实现和达到。
    一方面,为了实现这些以及其它优点并且依据本发明的一些实施方式的 目的,如在此具体和概括地描述的,本发明的显示器件可包括:包括栅极电极、源极电极以及漏极电极的薄膜晶体管;在所述薄膜晶体管上形成的第一?;げ?;在所述第一?;げ闵闲纬傻牡诙;げ?;在所述第二?;げ闵闲纬傻南袼氐缂?,所述像素电极通过暴露出所述漏极电极的第一接触孔而连接至所述漏极电极;在所述第二?;げ闵嫌胨鲈醇缂杂Φ奈恢么π纬傻牡谝涣酉?,所述第一连接线以及所述像素电极由相同的材料形成;在所述第一连接线上形成的第二连接线;在所述第二连接线、所述像素电极以及所述第二?;げ闵闲纬傻牡谌;げ?;以及在所述第三?;げ闵闲纬傻墓驳缂?,所述公共电极通过暴露出所述第二连接线的第二接触孔而连接至所述第二连接线。
    所述显示器件可还包括设置在第一接触孔区域中的像素电极上的金属衬垫,所述金属衬垫以及所述第二连接线由相同的材料形成。
    本发明的另一方面,一种形成本发明的显示器件的方法可包括:形成包括栅极电极、源极电极以及漏极电极的薄膜晶体管;在所述薄膜晶体管上形成第一?;げ愫偷诙;げ?;图案化所述第一?;げ愫退龅诙;げ阋孕纬杀┞端雎┘缂牡谝唤哟タ?;在所述第一接触孔和所述第二?;げ闵闲纬赏该鞯嫉绮?;图案化所述透明导电层以形成像素电极和第一连接线;在所述像素电极、所述第一连接线和所述第二?;げ闵闲纬山鹗舨?;图案化所述金属层以在所述第一连接线上形成第二连接线;在所述第二连接线、所述像素电极和所述第二?;げ闵闲纬傻谌;げ?;图案化所述第三?;げ阋孕纬杀┞端龅诙酉叩牡诙哟タ?;在所述第二接触孔和所述第三?;げ闵闲纬晒驳缂?;以及图案化所述公共电极层以形成公共电极。
    在形成第二连接线时,可与所述第二连接线同时,在所述第一接触孔区域中的像素电极上形成金属衬垫。在一些实施方式中,所述金属衬垫和所述第二连接线可由相同的材料形成。
    应理解的是,对于本发明的上文的概括描述和下文的详细描述都仅是示例性的,旨在提供对要求?;さ谋痉⒚鞯慕徊降慕馐?。
    附图说明
    附图提供对本发明的进一步理解并且并入说明书而组成说明书的一部 分,附图图示本发明的实施例,并且与说明书文字一起用来解释本发明的原理。在附图中:
    图1是现有技术的显示器件的一个像素区的截面图;
    图2和3示出现有技术的显示器件的图1的B部的变化的视图;
    图4是本发明的一些实施方式的显示器件的截面图;
    图5是本发明的另外的实施方式的显示器件的截面图;以及
    图6-15示出制造本发明的其它实施方式的显示器件的方法的截面图。
    具体实施方式
    现在将详细参照优选实施例,其实例示于附图中。尽可能地,在所有附图中使用相同的附图标记来表示相同的或相似的部件。如果认为已知的技术会误导本发明,则省略对该技术的详细描述。
    以下,将参照附图详细描述本发明的实施方式。
    在对本发明的实施方式的描述中,当一个结构被描述为形成在另一个结构上或下时,此描述应理解为包括所述结构彼此接触的情况以及在它们之间另设有第三结构的情况。
    以下,将参照图4-5详细描述本发明的各种实施方式的显示器件。
    图4是本发明的实施方式的显示器件的截面图。
    如图4所示,本发明的一些实施方式的显示器件包括基板200、薄膜晶体管、第一?;げ?34、第二?;げ?40、像素电极251、第一连接线252、第二连接线261、第三?;げ?70、公共电极281以及狭缝290。
    薄膜晶体管作为开关元件,形成在基板200上的像素区中。薄膜晶体管包括栅极电极210、栅极绝缘层220、有源层230、源极电极231以及漏极电极232。在一些实施方式中,基板200可由玻璃或透明塑料形成。
    根据图4所示的实施方式的薄膜晶体管显示出栅极电极210形成在有源层230下的底栅结构。然而,其它实施方式的薄膜晶体管可具有栅极电极210在有源层230上设置的顶栅结构。此外,可在有源层230上额外地形成在蚀刻工序中?;び性床?30的蚀刻阻挡层233。
    第一?;げ?34可形成在薄膜晶体管上并且可?;け∧ぞ骞?。在一些实施方式中,第一?;げ?34可形成为钝化层。第二?;げ?40可形成在第 一?;げ?34上。在一些实施方式中,第二?;げ?40可由光丙烯酸形成。
    像素电极251可形成在第二?;げ?40上。此外,像素电极251可通过暴露出漏极电极232的第一接触孔241而连接至漏极电极232。此处,像素电极251可用作用于显示驱动的电极,并且可由诸如氧化铟锡(ITO)的透明导体形成。
    第一连接线252形成在第二?;げ?40上与源极电极231对应的位置处,与第一像素电极251分开。如图4所示,第一连接线252可在完全或部分覆盖源极电极231的位置形成。此处,第一连接线252可在与像素电极251同一层上由与像素电极251相同的材料形成。此外,第一连接线252可与像素电极251同时形成而无需额外的工艺步骤。
    换言之,当在第二?;げ?40和第二连接线261之间形成第一连接线252时,第一连接线252可以对第二?;げ?40具有良好的粘着强度。在一些实施方式中,第一连接线252可由ITO形成,和/或第二?;げ?40可由光丙烯酸形成。因此,能够防止第二?;げ?40和第二连接线261之间的填充问题。
    此外,第一连接线252和像素电极251可由相同的材料同时形成,因此,无需单独的形成第一连接线252的额外工序。
    第二连接线261可由金属形成并且可在第一连接线252上。第二连接线261可电连接至第一连接线252。具体地,第二连接线261可由选自钼(Mo)、铝(Al)和铜(Cu)的任一材料或它们的合金形成。第二连接线261可将显示驱动信号或触摸驱动信号施加至公共电极281。
    第三?;げ?70可形成在第二连接线261、像素电极251以及第二?;げ?40上。第三?;げ?70可?;さ诙酉?61和像素电极251。第三?;げ?70可使像素电极251和公共电极281电隔离。第三?;げ?70可形成为钝化层。
    公共电极281可形成在第三?;げ?70上,并且可通过第二接触孔271连接至第二连接线261。此处,在具有集成触摸屏的显示器件中,公共电极281可用作显示驱动电极或触摸电极。公共电极281可由诸如ITO的透明导体形成。
    狭缝290可形成在公共电极281内。公共电极281和像素电极251可与狭缝290一起产生边缘场,并且所述边缘场可驱动液晶。
    图5是本发明的另一实施方式的显示器件的截面图。
    图5所示的本发明的另外的实施方式的显示器件包括基板200、薄膜晶体管、第一?;げ?34、第二?;げ?40、像素电极251、第一连接线252、第二连接线261、金属衬垫262、第三?;げ?70、公共电极281以及狭缝290。在一些实施方式中,显示器件可仅具有第二连接线261和金属衬垫262之一。在另外的实施方式中,具有第二连接线261和/或金属衬垫262的显示器件可不具有第一连接线252。
    金属衬垫262可由与第二连接线261的材料相同的材料形成在暴露出漏极电极232的第一接触孔241的区域中的像素电极251上。
    换言之,当在像素电极251上以与第二连接线261的材料相同的材料形成金属衬垫262时,金属衬垫262可填充在第一接触孔241的下部区域中的像素电极232的断开部,因此能够防止接触失效,并且防止由于蚀刻溶液的渗透所造成的漏极电极232的损坏。
    此外,金属衬垫262以及第二连接线261可由相同的材料同时形成,因此无需用于形成金属衬垫262的额外工序。
    以下,将参照图6-15描述制造本发明的各种实施方式的(具有上述构造的)显示器件的方法。
    图6-15示出制造本发明的各种实施方式的显示器件的方法的截面图。
    首先,如图6所示,在基板200上形成薄膜晶体管,然后形成第一?;げ?34和第二?;げ?40。具体地,第二?;げ?40可由光丙烯酸形成。薄膜晶体管可形成为其中栅极电极210、栅极绝缘层220、有源层230、源极电极231以及漏极电极232顺序地堆叠的结构。
    在一些实施方式中,薄膜晶体管具有在栅极电极210上堆叠有源层230的结构,但是本发明并不局限于此。作为另一实施例,可在有源层230上堆叠栅极电极210,并且可在有源层230上额外地形成蚀刻阻挡层233。
    随后,如图7所示,可通过图案化第一?;げ?34和第二?;げ?40来形成暴露出薄膜晶体管的漏极电极232的第一接触孔241。例如,可在第二?;げ?40上涂覆光刻胶,并且可通过曝光和显影工艺形成光刻胶图案。然后,可通过蚀刻第一?;げ?34和带有所述光刻胶图案的第二?;げ?40形成暴露出漏极电极232的第一接触孔241。
    随后,如图8所示,在图7所示的第一接触孔241和第二?;げ?40上形成透明导电层250。此处,可在第二?;げ?40上以及在第一接触孔241内部(包括漏极电极232的顶部)形成透明导电层250。
    随后,如图9所示,可通过图案化如图8所示的透明导电层250来形成像素电极251和第一连接线252。此处,可在第二?;げ?40上与源极电极231对应的位置处形成第一连接线252,使第一连接线252与像素电极251分开。具体地,第一连接线252可形成为透明导电层,因此可对光丙烯酸第二?;げ?40具有良好的粘着强度。
    随后,如图10所示,可在第一连接线252、像素电极251以及第二?;げ?40上形成金属层260。此处,可在像素电极251上第一接触孔241内形成金属层260。
    随后,如下所述,可通过图案化金属层260来形成第二连接线261。
    例如,如图11A所示,可通过图案化如图10所示的金属层260来形成第二连接线261;或者,如图11B所示,可通过图案化金属层260来同时形成第二连接线261和金属衬垫262。在另外的实施方式中,可通过图案化金属层260仅形成金属衬垫262。
    此处,可在第一连接线252上形成金属第二连接线261??山诙酉?61电连接至第一连接线252。具体地,第二连接线261可由选自Mo、Al和Cu中的任一材料或它们的合金形成。
    此外,可将金属衬垫262电连接至在第一接触孔241区域中的像素电极251。金属衬垫262可防止在第一接触孔241处的像素电极251的断开以及由于蚀刻溶液的渗透所导致的漏极电极232的损坏。
    随后,如图12所示,可在第二连接线261、像素电极251、金属衬垫262以及第二?;げ?40上形成第三?;げ?70。
    随后,如图13所示,可通过图案化第三?;げ?70来形成暴露出第二连接线261的第二接触孔271。
    随后,如图14所示,可在第二接触孔271和第三?;げ?70上形成公共电极层280。此处,可通过图13所示的第二接触孔271将公共电极层280电连接至第二连接线261。
    随后,如图15所示,可通过图案化图14所示的公共电极层280来形成 公共电极281。此处,公共电极281可包括狭缝290。
    以上描述了仅执行到形成公共电极的工序的制造显示器件的方法,但是本发明的范围不局限于此。所述方法可包括形成公共电极的工序以及可还包括用于制造具有集成触摸屏的显示器件的另外的工序。
    如在此描述地,根据本发明的一些实施方式,在显示器件中,当形成像素电极时,可在第二?;げ悖ɡ?,光丙烯酸第二?;げ悖┯肓酉撸ɡ?,金属连接线)之间额外地形成与像素电极的材料相同的材料,因此,可解决第二?;げ阌肓酉咧涞奶畛湮侍?。
    此外,根据本发明的另外的实施方式,可通过与形成像素电极的工序相同的工序,由与像素电极的材料相同的材料形成额外的线,因此可无需额外的工序而解决填充问题。
    进一步地,根据本发明的另外的实施方式,在显示器件中,当形成第二连接线时,可在接触孔区域中的像素电极上形成与第二连接线的材料相同的材料,因此可防止在像素电极与漏极电极之间的连接部中像素电极的断开,并且可防止由于像素电极的断开所导致的漏极电极的损坏。
    对于本领域技术人员将显而易见的是,在不偏离本发明的精神或范围的情况下,能够对本发明做出各种改进和改变。因此,本公开内容意在覆盖落入所附权利要求书及其等同物的范围内的对本发明的改进和改变。

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    显示 器件 及其 制造 方法
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